リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

スパッタの基礎と装置の改善策 ～トラブルから見た膜厚分布改善

★スパッタプロセス時に要求される、膜厚分布の改善、パーティクルの低減改…

講　師 株式会社アルバック 　半導体電子技術研究所　研究部　部長　様　 対　象 スパッタリング、薄膜技術に関心のある技術者・研究者・担当部門・初心者など 会　場 東京中央区立産業会館 4F　第2集会室【東京・日本橋】 都営新宿線 馬喰横山駅 地下通路経由　　B4出口 5分　(道案内2) JR総武快速線 馬喰町駅 東口改札経由　　C1出口 5分　(道案内3) ほか 日　時 平成...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech

『高速スパッタリングによるさまざまな用途への成膜技術および装置面

※9月3日までに初めてお申込いただいた新規会員様は早期割引価格⇒42,…

第1部　スパッタの基礎と装置から見た改善策 1.スパッタリングの基礎 2.スパッタ装置の改善と変遷 3.膜厚分布の改善 4.ステップカバレージの改善 　4-1　ステップカバレージの改善要求 　4-2　カバレージが必要な理由 　4-3　スパッタ方法の改善 【質疑応答　名...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech

【セミナー8/28】『スパッタリング』の基本と考え方 ， 膜の

スパッタリング率の測定法は？

■　講　師 有限会社アーステック 代表取締役 小島 啓安 氏 【名古屋大学 客員教授】 　 <経歴> 1977年 キヤノン(株)にて半導体露光装置用光学薄膜プロセス， 膜設計の開発に従事 　　　　　　 1982年 旭硝子(株)にて建築・自動車用硝子スパッタ，膜開発に従事 　　　　　　 2003年 (有)アーステックを設立 　　　　　　 2009年8月より 名古屋大学 客員...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

技術資料ULVAC TECHNICAL JOURNAL No79

無料プレゼント中！真空に関する最新技術資料 No.79です。【アルバッ…

ULVAC TECHNICAL JOURNAL No.79は、真空に関する最新技術資料です。 大型スパッタカソードにおけるIGZO成膜技術や、結晶太陽電池向けイオン注入装置の開発、OLED用薄膜封止装置 CEE-950の開発、リークディテクタ HELIOT900シリーズの開発、マグネットカップリング搭載型油回転真空ポンプなどを掲載しています。 今なら最新技術資料を無料でプレゼント中です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

【技術セミナー】薄膜技術の高度化と素材デバイスへの応用の最新動向

薄膜形成・品質制御の高度化から先端分野の最新活用事例まで

　この講座では、進歩の目まぐるしい真空技術および薄膜技術の基本と、各種薄膜技術の原理を紹介し、薄膜の設計から高品質化・不具合対策まで、重要なポイントを解説します。 　公判では、医療機器や家電、建材、自動車、航空・宇宙など、今後注目される分野を中心に、薄膜技術の最新の応用事例を技術原理の解説とともに紹介します。金属やガラスからのプラスチックへの代替、バイオミメティクス（生体模倣）による表面機能付与...

メーカー・取り扱い企業： 日本アイアール株式会社