• ガスの切替”自動化”のご提案<基礎知識と製品をまとめた資料進呈> 製品画像

    ガスの切替”自動化”のご提案<基礎知識と製品をまとめた資料進呈>

    PR「ガス自動切替器とは?」「ガスの切替を自動化するメリット」等、ガス切替…

    当社は、ボンベ内のガスが無くなると、自動で別のボンベに切り替える『ガス自動切替器』を幅広く取り扱っています。本資料では「ガス自動切替器とは?」「ガスの切替を自動化するメリット」等ガス切替の自動化のために必要な知識と、製品ラインアップをご紹介しております。 【水素用Air作動弁のご紹介】 ■大口径、高圧、水素用Air作動弁 ■型式:AV-20NSC-70-80SW ■流体:水素を含む可燃...

    • 80A_Air作動弁_AV-20NSC-70-80SW_画像.jpg

    メーカー・取り扱い企業: ヤマト産業株式会社

  • 【遠心分離機】産業排水用 デカンタ型遠心脱水機 pro 製品画像

    【遠心分離機】産業排水用 デカンタ型遠心脱水機 pro

    PRコンパクトなデザインの目詰まりの無い連続式自動デカンタ型遠心脱水機!

    世界大手の遠心分離機メーカーのデカンタ型遠心脱水機です。 デカンタ型の特徴 ・目詰まりが無い ・洗浄水が少ない ・クローズタイプで臭気が少ない ・汚泥性状(濃度)の変動にも幅広く対応 ・自動運転で手間が掛からない ・小設置スペース...弊社デカンタの特徴 ・処理量      :数百L/h~90m3/h(豊富なラインナップ) ・高遠心力     :最大3400G~4060G(機種により異なります)...

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    メーカー・取り扱い企業: GEAジャパン株式会社 本社

  • スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』 製品画像

    スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプション -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • Druck 半導体製造装置向け圧力計測ソリューション 製品画像

    Druck 半導体製造装置向け圧力計測ソリューション

    半導体製造装置やサブシステムの圧力校正試験にPACEシリーズを導入しま…

    【SEMICON JAPAN2022 Hall2 総合ゾーン#2134に出展決定】 流体制御に欠かせないPACE圧力コントローラの校正デモが体験できます!高速圧力制御を実感しませんか? 【生産ラインの圧力校正試験に圧力コントローラ PACE】 ■高精度、長期安定性、高速反応性と3拍子そろっています ■圧力制御スピード:他社製品の最大5.5倍 ■生産ライン上の圧力校正試験に最適(試験の...

    • 半導体イメージ3イプロス.jpg
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    メーカー・取り扱い企業: 日本ベーカーヒューズ株式会社&ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社  (旧)GEセンシング&インスペクション・テクノロジーズ株式会社 & GEエナジー・ジャパン株式会社

  • 小型スパッタリング装置 製品画像

    小型スパッタリング装置

    コンパクト設計で省スペースを実現!大学や民間の研究室に最適なスパッタリ…

    韓国 A-tech社は1964年の創業以来、顧客のニーズに合わせた薄膜製造装置を提供してきました。デスクトッププロは小型高性能でデスクトップに設置でき、経済的にもメリットのあるスパッタリング装置です。 物性研究や製品QCおよびQA、半導体の故障解析などに最適です。 ■詳細はカタログダウンロードより■ ●御問合せ:03-5472-1722 (TEL)...【主な特長】 コンパクト設計により...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー

  • スパッタリング装置『MiniLab-026』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 立体物用スパッタリング装置 製品画像

    立体物用スパッタリング装置

    立体物成膜での高いカバレッジを実現! 最大3台のスパッタカソードを搭…

    『立体物用スパッタリング装置』は、当社独自のスパッタカソードを 搭載しています。 ワークステージに4軸機構(昇降、公転、自転、チルト)を搭載し、立体物成膜での高いカバレッジを実現。 加熱機構、バイアス電源を搭載し、逆スパッタ、高温スパッタ、膜応力制御が可能です。 最大3台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が 可能です。 【特長】 ■当社独自のスパッタカ...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 研究開発用スパッタリング装置 製品画像

    研究開発用スパッタリング装置

    高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

    特長 ■クリーンなサイドスパッタ方式を採用 ■ロードロック式タイプ、バッチ式タイプの2機種をご用意 ■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載(±5%以内(SiO2でφ170mm以内)) ...

    メーカー・取り扱い企業: 芝浦メカトロニクス株式会社

  • スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】 製品画像

    スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

    真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

    nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統(プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 小型ウェブコーター(ロールTOロール) 製品画像

    小型ウェブコーター(ロールTOロール)

    実験用の小型成膜装置。PET等のフィルムに成膜します。

    PET等のフィルムにスパッタにより成膜します。 タッチパネルによる操作で非常に簡単にご使用頂けます。 実験用に小型に設計しており、研究室等に最適です。 高品質ながら、社内一貫生産により低価格を実現しております。 お気軽にお問合せ下さい。...フィルム巾:100mm 厚み:50μ~100μ 長さ:200m カソード:2SET RFボンバード可 仕様はお客様のご要望をできる限...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富士アールアンドディー

  • 【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置 製品画像

    【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタカソード x 3:自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:基板回転・昇降、基板加熱(Max500℃)、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統(MFC制御)、RF/DC ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプション -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-026』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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