• ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』 製品画像

    ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

    PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

    『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • OBLF社製 発光分光分析装置 GS1000-II 製品画像

    OBLF社製 発光分光分析装置 GS1000-II

    独クラフツマンシップの中から誕生した高性能発光分光分析装置

    GS1000-IIはOBLF社製分析装置の中で最も小型なシングルマトリックス専用の装置です。 高精度な分析が、簡単な操作および僅かな日常メンテナンスのみにより実現できます。 大量生産方式では決して得ることのできない高精度と抜群の安定性の達成で各国主要企業において採用されています。 詳細につきましては別途ご連絡下さい。 ...【特徴】 ・光学系:焦点距離500mmのパッシェンル...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンマシナリー株式会社

  • OBLF社製 発光分析装置 QSN750-II 製品画像

    OBLF社製 発光分析装置 QSN750-II

    世界最高の精度と安定性をもつ発光分析装置

    QSN750-IIは750mmの真空光学系をもつマルチマトリックス対応型の装置です。幾多の改良が加えられた現在でも、1/2インチ径の光電子増倍管、カールツァイス製凹面回折格子、といった伝統ともいえる構成と、焦点距離750mmが変わることなく引き継がれています。 詳細につきましては別途ご連絡ください。 ...【特徴】 ・光学系:焦点距離750mmのパッシェンルンゲマウンティング ・真空チャン...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンマシナリー株式会社

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