• 接着・接合EXPO出展!OEM加工や高周波ウエルダーの相談受付 製品画像

    接着・接合EXPO出展!OEM加工や高周波ウエルダーの相談受付

    PR高周波トランジスター式ウェルダー『YRP-400T』を第8回「接着・接…

    高周波トランジスター式ウェルダー『YRP-400T‐RC型』は、ハーネス加工やチューブ溶着・ボート溶着など小型で精密性を要する加工に適した高周波装置です。  装置が軽量・小型なので、レイアウトの自由度も拡がり、スムーズで無駄のない動きを実現いたします。  【特長】 ■予熱不要で即動作可能! ■ソリッドステート高周波発振器を搭載 ■加熱コントロールをフィードバック制御 ■加圧に電動シ...

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    メーカー・取り扱い企業: 山本ビニター株式会社

  • アルミ製 水冷ヒートシンク「YCシリーズ」 製品画像

    アルミ製 水冷ヒートシンク「YCシリーズ」

    PRアルミ型材により成形しているため、銅製と比べ3~4割の低コスト化を実現…

    電気、電子機器に使用されている半導体素子(トランジスタ、CPU、IGBT 等)は、 動作中に冷却を行わないと素子から発生する熱のため素子そのものを破壊する場合があります。 ヒートシンクは、この熱をすばやく移動させ冷却することにより素子の破壊を防ぐ電子部品のラジエーターです。 冷却方法は、発生する熱により生じる空気の対流を利用した自然冷却と、ファンにより空気を強制的に対流させたり、水などの冷却媒...

    メーカー・取り扱い企業: LSIクーラー株式会社

  • 今さら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方 ※解説資料進呈 製品画像

    今さら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方 ※解説資料進呈

    "大気圧プラズマ装置の処理形態"や"当社独自の装置特長"などについて解…

    【当社独自の装置特長(ダウンストリーム型)】 ■幅広、長尺物への均一処理(100ミリ~3000ミリ) ■半導体チップ上の処理も可能(処理後のトランジスタ特性変化なし) ■4nmのL&Sでも絶縁破壊等の発生が無い ■ワーク内部の分子間架橋特性変化や分子切断の影響やダメージ発生がない ■Particle発生が無い(0.3μ以上及び2.83SLMのサ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア

  • 大気圧プラズマ装置を用いた粒子への効率的表面改質 製品画像

    大気圧プラズマ装置を用いた粒子への効率的表面改質

    大気圧プラズマ装置による効率的な表面処理を実現!バグフィルターにて捕獲…

    ■放電電極内でのイオン加速制御及びスパッタ効果の抑制効果から、Particle発生が無い ■誘電体電極寿命が半永久的に使用でき、ランニングコスト低減 ■半導体チップ上の処理も可能(処理後のトランジスタ特性変化なし<4nm以上のL/S>) ■プラズマ発生エリアとワーク間距離を最小限にする構造(特許)により、高性能化が実現 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア

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