• 【SDGs&省人化対策】コストを90%削減可能!『保温ヒータ-』 製品画像

    【SDGs&省人化対策】コストを90%削減可能!『保温ヒータ-』

    PR約1000万/月のコスト90%削減に寄与!周辺温度に応じて出力変化、ム…

    西都電機は、長寿命で周辺温度に応じて出力変化でき、 危険地域でも使用できる安全な、保温ヒーター(自己制御ヒーター)を提供しております。 上限温度にて温度をセーブさせているので加熱しすぎず、ムラなく保温可能。 電気なのでボイラー管理士も不要で温水・スチームなどに比べ コストメリットが高く、最近注目されています! 【課題】 お菓子メーカー様から、チョコレートやジャムを溶かすために...

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    メーカー・取り扱い企業: 西都電機株式会社

  • 近赤外線ヒーター(ヒートビームシリーズ) 製品画像

    近赤外線ヒーター(ヒートビームシリーズ)

    PRハロゲンランプヒーターより放射される光(近赤外線)を照射し、高温・急速…

    近赤外線ヒーター ヒートビームシリーズは、特殊高効率ハロゲンランプから照射される近赤外線を利用し、ライン状やスポット状または、面状の熱源が得られるヒーターユニットです。 反射鏡は特殊金メッキを施し、熱効率が高くコンパクトな設計。 熱源にはハロゲンランプを使用する事により、最大1200℃までの加熱と2mm~3mm程度の集光が可能です。 ハロゲンランプから照射される輻射熱を利用しているので、非接...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイベック

  • BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃ 製品画像

    BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

    PVD、CVDなどの薄膜実験用基板加熱ヒーター均一性・昇温特性・制御性…

    高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD(スパッタ、蒸着、EB等)、CVDなどの各種真空薄膜実験、高温真空アニール、高温試料解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃  製品画像

    ◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃

    真空用 高温るつぼ加熱ヒーター。有機蒸着源 800℃、金属蒸着源 15…

    HTEヒーターは最高使用温度は1500℃の超高温真空用加熱ヒーターユニットです。 蒸発温度の高い材料も使用することができますので、有機EL等の低温有機蒸着(~ 800℃)・高温抵抗加熱蒸着(~ 1500℃)な...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ◾️真空用【CH 超高温円筒状ヒーター】Max1800℃ ◾️ 製品画像

    ◾️真空用【CH 超高温円筒状ヒーター】Max1800℃ ◾️

    真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃(グラファイ…

    ◎ 使用可能環境:真空中, 不活性ガス中 etc.. ◎ 発熱体:Graphite, C/Cコンポジットヒーター、SiCコーティング、PGコーティング、タングステン、タンタル、など。 ◎ 製作範囲:ヒーター部(Φ150 x 100mm程度まで)導入フランジ、温度制御ユニット ◎ 用途:各種真空装置プロセ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』 製品画像

    アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    イスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

    卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…

    ◉ 卓上サイズ 省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm(*2inch用チャンバー参考値) ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分(1500...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  •  ◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸着セル Max1500℃ 製品画像

    ◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸着セル Max1500℃

    有機蒸着源〜800℃、金属蒸着源〜1500℃、真空用 高温加熱セルとし…

    EL等の低温有機蒸着(~ 800℃)用セルと高温加熱(~ 1500℃)セルを交換することができます。 真空成膜用ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも用意。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設計。 シャッターはフリップ式を採用 チャンバー内に複数のOLEDソースを設置しても他のコンポーネントに干渉することがありま...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール ...

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  • ◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆ 製品画像

    ◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール ...

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  • アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』 製品画像

    アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

    Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで…

    ◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲:Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式(多段5枚カセット) ◾️ ヒーター制御:1ゾーン、又は2ゾーン(カスケード制御) ◾️ ヒーター材質: ・C/Cコンポジット:Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング 高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ 製品画像

    【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃

    卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…

    ◉ 卓上サイズ 省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm(*2inch用チャンバー参考値) ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分(1500...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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