電子機器の受託開発・設計（ハードウェア、FPGA、ソフトウェア）

PR画像技研は、幅広くお客様の開発をお手伝いします。（一貫した開発から部分…

●ハードウェア・ファームウェア・ソフトウェアのすべてにわたって、幅広くお客様の開発をお手伝いします。 ●画像の処理、圧縮、高速伝送、認識などで豊富な経験を持っています。 ●FPGAを使用したハードウェア処理により、高速処理、リアルタイム処理を実現します。...●ハードウェア 仕様書の作成から回路図、部品リストの作成、基板アートワーク、生基板作成、部品手配、実装、評価、調整までお引き受けします...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社画像技研

フォトマスク洗浄装置｜PDP・大判フォトマスク用 TW-1000

スモールサイズからラージサイズまで、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を1台で…

テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。 弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズか...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

簡易型マスク洗浄装置｜簡易洗浄ユニット

簡易洗浄ユニットは、最大7インチマスクサイズまで対応できる簡易洗浄ユニ…

お客様のご使用環境から必要なユニットをチョイスしマスク洗浄を行えます。 ■主な特長 ・7インチまでのマスク洗浄に使用できます ・研究開発用途や少量のマスク洗浄に最適 ・既存の装置と併用し必要なユニットを選択 ・設備投資で予算が厳しい場合にもおすすめ ※カスタム対応等、詳細はお気軽にお問い合わせください。 ...各ユニットは『ケミカルユニット』『スクラブユニット』『...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

マスク洗浄機｜全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」

マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去

TWC-200Aは露光工程で使用されるマスクの洗浄に特化して開発されました。 本装置の特長はマスクに付着したレジストとパーティクルを一挙同時に全自動で除去する点にあります。 特にレジスト除去に関しては大手薬品メーカーと共同で専用洗浄剤を開発し、除去効果を大幅に向上させるとともに安全性や地球環境にも配慮しました。 オペレーターはマスクを装填したカセットを乗せるだけ。 危険な薬品に曝される事も...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

フォトマスク洗浄装置｜簡易型マスク洗浄装置TWC-302

「スクラブ洗浄＋リンス」＆「Hot純水乾燥」の2槽式簡易型マスク洗浄装…

マスクに付着した1μm以上のパーティクルを除去する簡易型のマスク洗浄装置。 2槽式のマスク洗浄装置で、1槽目で専用ブラシによるスクラブ洗浄と リンスを行い、2槽目ではホット純水乾燥を行う簡易型のマスク洗浄装置です 1層目のスクラブ洗浄において、専用薬液による洗浄もオプションとして提供しております。専用薬液を使用すると、レジスト残渣を除去することも可能になります。...■主な特長 ・ワーク...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

フォトマスク洗浄装置 | 縦型コンパクトタイプ TWE-200

スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れ…

スクラブ洗浄・リンス・乾燥を1台で実行 テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。 弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモール...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社