フォトレジストコーティング装置（PRコーティング）

ロールコート方式前処理・乾燥付き！フォトレジストコーティング装置のご紹…

当装置は、銅箔にフォトレジストをコーティングできます。 加工面は片面及び両面。 ロールコート方式前処理・乾燥付きです。 また、装置構成は巻出～前処理～PRC～乾燥～巻取となっています。 【スペック】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

プラズマ除去装置『HDRF』

フォトレジストや有機ポリマ残渣を低温で除去！当社のプラズマ除去装置をご…

プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社で取り扱う、『HDRF』を ご紹介いたします。 MEMS、LED、先端パッケージングのデバイス製造段階で特に重要になる、 フォトレジストや有機ポリマ残渣を低温で除去します。 ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■温度 ・Low temp：50℃ to 150℃ ・High rate：150...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

ＰＴＦＥメンブレンカートリッジフィルターＴＣＦタイプ

フォトレジストなどの機能性樹脂や各種有機溶剤およびガスの濾過に適してい…

ＰＴＦＥ製メンブレンフィルターとポリプロピレンまたはポリエチレンから構成された、耐薬品性のあるカートリッジフィルターです。 【特長】 ■ＰＴＦＥメンブレンフィルターには、界面活性剤を使用しておりません。フィルターのシールは熱溶融接着のため、クリーンなカートリッジ　フィルターです。 ■ＴＣＦ－０２０ＬタイプはＰＴＦＥと高密度ポリエチレンのみで構成された、低溶出のカートリッジフィルターです。...

メーカー・取り扱い企業： アドバンテック東洋株式会社

Degassing Module , 脱気Module

LCD、OLED製造工程、半導体製造工程、精密塗装、食品業界など液体を…

・マイクロバブルの除去、防止します。 ・液の溶存気体(N2, O2)を取除きます。 ・有機溶剤(フォトレジスト)及び純水に適用可能です。 ・水及び ガラス表面の気泡(マイクロバブル)を取除く事が出来ます。 ・溶存酸素による酸化を防止します。 ・気体除去率80%以上。 ...

メーカー・取り扱い企業： アジアファインテック株式会社 韓国本社

脱気モジュール , 短納期, 低価格, 他社との互換性有

LCD、OLED製造工程、半導体製造工程、精密塗装、食品業界など液体を…

・マイクロバブルの除去、防止します。 ・液の溶存気体(N2, O2)を取除きます。 ・有機溶剤(フォトレジスト)及び純水に適用可能です。 ・水及び ガラス表面の気泡(マイクロバブル)を取除く事が出来ます。 ・溶存酸素による酸化を防止します。 ・気体除去率80%以上。 ...

メーカー・取り扱い企業： アジアファインテック株式会社 韓国本社

紫外線強度計UVR-300　レンタル

半導体製造用フォトレジストの光量測定やUVケア製品（医療・医薬・食品分…

度計は、医療、医薬、食品分野などの紫外線殺菌ランプや光化学反応、高分子関係劣化試験などに幅広く利用される測定器で、近年は市場が拡大しているUVケア製品の特性評価や半導体製造におけるG線・I線用フォトレジストなどの光量測定にも用いられています。 UVR-300は、高感度で、ワイドダイナミックレンジ（0.1　- 80,000μW/cm2）を有し、測定用途に応じて異なる測定波長域に対応できる３タイプ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社メジャー

《新型》スピンスクラブ自動洗浄装置　（CMP後・研磨後洗浄）

量産現場向け　高信頼性自動スクラブ洗浄装置

洗浄機》カタログも参照ください。 ウエハ、枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、基板クリーニング装置、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、スクラブ洗浄装置、スクラブ洗浄、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機、搬送装置...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ソフエンジニアリング

ナノパターン露光装置『PhableR 100』

回折限界を超えた解像度を実現！低コストで周期構造を作製できる露光システ…

『PhableR 100』は、高解像度の周期構造を作製できる低コストの 露光システムです。 フォトレジストをコートし、プロキシミティにマスクセットして露光。 独自の技術により、回折限界を超えた解像度を実現。 サブミクロンスケールのグレーティングや六方配列/三方配列の2Dパターン 作製が行...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル