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リソグラフィとは?
フォトレジストの塗布、露光、現象の3つのステップで構成されます。
きな影響を与えるため、
常に技術革新が求められています。
現在主流となっているリソグラフィ技術は、「液浸式アーゴンフッ素(ArF)
エキシマレーザー」です。
【基本原理】
■フォトレジストの塗布
■露光
■現象
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業:
夏目光学株式会社
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投影露光とは?
微細なパターンを半導体基板上に形成するために使用される技術。
投影露光は、半導体製造プロセスにおいて、微細なパターンを半導体基板上に
形成するために使用される技術の一つです。
半導体基板上にUV(紫外線)光を照射することで、フォトレジストと
呼ばれる光に敏感な材料にパターンを形成します。
フォトレジストは、UV光を当てると化学反応が起こり、露光した箇所が
溶解したり、硬化したりします。その後、露光された箇所をエッチン...
メーカー・取り扱い企業:
夏目光学株式会社
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