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9件 - メーカー・取り扱い企業
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PRアルミフレームの溝に取り付けて、配線結束と保護の作業を効率化!サンプル…
★2024年6月19日~21日 東京ビッグサイトにて開催されます、機械要素技術展2024にて展示します★ 小間位置 東京ビッグサイト 東3ホール E17-40 工場設備等に使用されるアルミフレームに直接取り付けることができる、 全く新しいチューブを開発しました。 アルミフレームの溝に嵌め込み・固定される特殊な構造で、 チューブの中に電線やホースを収納することが出来ます。 煩雑になりがちな...
メーカー・取り扱い企業: 日本ジッパーチュービング株式会社
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【高強度・軽量・防塵】アルミ安全柵・安全カバー※一貫生産対応
PR軽量・高強度のアルミフレームを活用した安全柵・安全カバーを制作!ロボッ…
軽量・高強度のアルミフレームで作る安全柵・安全カバー・クリーンルームをお探しの方はいませんか? オリジナルアルミフレームで安全柵、安全カバーを客様のご要望通りに製作します。 【アルミフレーム安全柵・安全カバーの特長】 ◆柔軟なレイアウト設計が可能な安全柵 様々な寸法のパネル・扉・天井部分の組合せで自由自在にレイアウト。 ◆取付け工事が簡単 色々なパターンの安全柵が連携プレー...
メーカー・取り扱い企業: 鍋清株式会社
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部分的な剥離やフレーム/パレットの全体浸漬剥離!どちらでも使用可能
『ATRON DC』は、作業者への安全性を配慮し、剥離力を最大限発揮できる ように特別開発された水系洗浄剤です。 コーティングされたフレーム、パレットおよび治具からアクリル系、 ポリウレタン系、エポキシ系、UV 硬化タイプまたはパリレン系 のように異なるコーティング材を確実に取り除きます。 すべてのメンテナンス洗浄機、特に浸...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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パワー半導体・プリント基板向け洗浄剤/VIGON PE 194A
弱アルカリ性フラックス洗浄剤、リンス性に優れ泡立ちせず、スプレーや浸漬…
た 水系弱アルカリ性洗浄剤です。 感作性が高い金属、特にダイとの材料適合性に非常に優れており、 さらに短時間での銅の酸化膜除去が可能。 MPCテクノロジーを基にパワー半導体やリードフレーム、 ディスクリート部品、パワーLED、プリント基板から フラックス残渣を確実に除去します。 【特長】 ■パワー半導体やプリント基板からフラックス残渣を確実に除去 ■弱アルカリ性で、特...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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【パワー半導体・プリント基板洗浄剤】VIGON PE 190A
引火点を持たないため防爆設備を必要としない!様々なタイプのスプレー装置…
『VIGON PE 190A』は、スプレー装置用に専用設計された水系アルカリ性洗浄剤です。 MPCテクノロジーを基にリードフレームやディスクリート部品、 パワーモジュール、パワーLED、プリント基板、特に低スタンド部品 下部からフラックス残渣を確実に除去。 また、ひどく酸化したり汚れの強い銅表面に対し優れた効果を発...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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低スタンドオフ部品の洗浄にも好適!防爆仕様なしで浸漬槽に導入可能
圧・中圧スプレー 装置でご利用いただけるよう専用設計された水系洗浄剤です。 MPC テクノロジーを基に、様々なタイプのフラックス残渣を電子基板、 セラミック基板、パワーモジュール、リードフレームから除去することが可能。 ワイヤボンディングやコーティングなどの次の工程に向け、 高い清浄度要求を満たすことができます。 【特長】 ■ワイヤボンディング・コーティング工程に対して高...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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【パワー半導体・PCBフラックス洗浄剤】VIGON PE 180
パワーエレクトロニクス・プリント基板向け!銅表面の酸化膜除去にも優れま…
180』は、スプレー装置用にてパワーエレクトロニクスや プリント基板のフラックス除去用として開発された中性の水系洗浄剤です。 フラックスを確実に除去し、材料適合性に優れた製品。 リードフレーム、ディスクリート部品、パワーモジュール、 パワーLED、プリント基板などのフラックス除去として用いられます。 また次工程のワイヤボンディング/接着ボンディングやモールディング性 向上のた...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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【コ・ソルベント工程向け洗浄剤】ZESTRON CO 150
HFE系洗浄剤と組み合わせ、水を使わない工程となる!残渣のない素早い乾…
波浸漬工程用に専用設計された溶剤系洗浄剤です。 希釈せずに、HFE系洗浄剤との組み合わせでプレ洗浄、 もしくはコ・ソルベント用として使用可能。 特に電子部品、パワーモジュール、リードフレームベースの ディスクリート部品から共晶・鉛フリー無洗浄はんだの フラックス残渣を洗浄するのに適しています。 【特長】 ■共晶・鉛フリーはんだに対し洗浄性が優れる ■ワイヤーボンディング...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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【半導体向け中性フラックス洗浄剤】HYDRON SE 220
中性のため、材料適合性にも優れる!ダイアタッチ時などに発生するフラック…
『HYDRON SE 220』は、浸漬工程用一相タイプ水系洗浄剤です。 リードフレーム、ディスクリート部品、パワーモジュール、パワーLED、 フリップチップやCMOS といった各種の半導体パッケージから ダイアタッチ時などに発生するフラックス残渣を除去。 一相構造のため、...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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表面張力が低いことが特長!狭い場所にも良好な洗浄結果をもたらします
『HYDRON SE 230A』は、浸漬工程用一相タイプ水系洗浄剤です。 リードフレームやディスクリート部品、パワーモジュール、 パワーLED、フリップチップやCMOSといった各種半導体から ダイアタッチ時に発生するフラックス残渣を確実に除去。 また、ワイヤボンディングやモ...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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【フラックス洗浄方式の種類と選定方法】洗浄方式検討のヒントを紹介
代表的な方式はスプレー(シャワー)・超音波・噴流!フラックス洗浄につい…
フラックス洗浄方法を検討する上で、ポイントの1つである 「洗浄方式」の種類と選定方法についてご紹介します。 フラックス洗浄とは、プリント基板、パワーモジュール、半導体パッケージ、 リードフレームなどを保護しながらフラックス残渣(コンタミ)を 除去する事です。 フラックス残渣があることにより、マイグレーションの発生やモールディング の密着不良などの不具合が起きる可能性があり、フラ...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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