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  • 超高画素 2億5000万画素/1億2700万画素 CXPカメラ 製品画像

    超高画素 2億5000万画素/1億2700万画素 CXPカメラ

    PR超高画素カメラによる広視野角・超高精細な撮像が可能で、各種MV用途に好…

    Sony社製 CMOSセンサ(Pregius IMX661/3.6型)を搭載した、1億2700万画素のCoaXPressカメラ「VCC-127CXP6」と、Canon社製CMOSセンサ(Ll8020SAM/APS-H型)を搭載した、2億5000万画素のCoaXPressカメラ「VCC-250CXP1」。どちらも超高解像度を誇り、各種外観検査(液晶・基板・半導体ウエハ・建築物等の欠陥/異物/形状)、...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社シーアイエス

  • 【資料】株式会社ジーエスピー 加工事例集 製品画像

    【資料】株式会社ジーエスピー 加工事例集

    PR立型マシニング加工や内外径偏心加工、黒アルマイト処理などを行った製作事…

    当資料では、株式会社ジーエスピーが手掛けた加工事例を ご紹介しております。 ボディをはじめ、吸着テーブルや枠受フレームといった 部品の製作事例を多数掲載。 サイズや主要材質、加工内容についても記載しております。 是非、ご一読ください。 【掲載内容(一部)】 ■製作事例 ・ボディ ・吸着テーブル ・枠受フレーム ・テーブル ・ブラケット ※詳しくはPDF資料...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジーエスピー

  • フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズ 製品画像

    フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズ

    最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

    フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速します。さらに、オプションの脱ガス捕集ユニットを用いることによ...

    メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

  • レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000 製品画像

    レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000

    EQ-10 EUV光源を搭載、極端紫外光対応解析露光装置

    レジスト解析用EUV露光装置EUVES-7000は、米国Energetiq Technology社製EQ-10 EUV光源を搭載し、波長13.5nmの極端紫外光露光に対応したオープンフレーム露光が行えます。...

    メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

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