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PRRF::Suiteは工場全体の生産ライフサイクルを通して製造現場のデジ…
RF::Suiteが提供するバーチャルコミッショニング技術は、生産工場の開発及び生産準備プロセスにおける品質ゲートウェイとしての機能を果たします。現実の生産システムを仮想空間内で構築して、実際に使用するPLC制御プログラムおよびロボットプログラムと通信しながら、実際の生産システムの挙動をリアルに再現させることができます。 これにより、設備の立上げ期間の短縮、コスト低減、実機据付後の想定外不具合の...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テックスイートジャパン (旧セニット・ジャパン)
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真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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◉ 短時間 1バッチわずか30分で容易にグラフェン合成実験が可能 ◉…
◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ,30stepのプログラム作成可能 ・PCソフトウエア付属 USBケーブル接続,PC側でのオフラインレシピ作成→装置へアップ/ダウンロード, CSVデータ出力 ・最大試料サイズ:40 x 40mm:銅(ニッケル)箔,...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
範囲:Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ・7inchタッチパネル操作 ・デジタル真空計 ・MFC最大3系統自動調整(又はフロートメーター手動流量調整) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・一次側電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 50A NFB ・冷却水:8L/min, 0.4Mpa ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉
ック:断水警報、過昇温、ガス圧力低下 ◆基本仕様◆ ・電源仕様:AC200V 75A NFB 50/60HZ(C-500) ・Max2900℃(カーボン炉)、2400℃(メタル炉)、 ・プログラム温度調節計、C熱電対 ◆オプション◆ ・記録計 ・ターボ分子ポンプ ・るつぼ ◆主なアプリケーション◆ ・新素材開発 ・燃料電池 ・その他...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…
タングステン(メタル炉) ・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン炉), タングステン/モリブデン(メタル炉), 又はタングステン/モリブデン多層シールド(メタル炉) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 6KVA ・冷却水:3L/min, 0.4Mpa 25〜30℃...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…
で対応 ・基板枚数:1〜3枚程度 ・石英サセプタ手動昇降式:停止位置目盛、クランパ付き ・炉芯管:Φ100 x Φ95 x 470L mm ・昇降:手動回転ハンドル ・温度調節:PIDプログラム温度調節計 ・熱電対:2対式K熱電対x1(制御用、過昇温用)、Kタイプ素線(炉芯測温用)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…
・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金属蒸着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基(抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで) ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・成膜プログラム自動制御 ・30種類のレシピ登録 ・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション ・基板回転 ・上下昇降 300mmストローク ・基板シャッター ・ドライポンプ(RP標準) ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…
反応管内 ◉ 最高使用温度1100℃ ◉ 試料サイズ:10x10mm, (Φ2.5inch)100 x 100mm(Φ4inch) ◉ PID温度コントロール:Eurotherm 2416プログラム温度調節計 ◉ 流量制御:±1%F.S. 0sccm 〜 100, or 1000sccm(ガス種による) ◉ ロータリーポンプ付属...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
範囲:Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ・7inchタッチパネル操作 ・デジタル真空計 ・MFC最大3系統自動調整(又はフロートメーター手動流量調整) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・一次側電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 50A NFB ・冷却水:8L/min, 0.4Mpa ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…
・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金属蒸着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基(抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで) ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・成膜プログラム自動制御 ・30種類のレシピ登録 ・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション ・基板回転 ・上下昇降 300mmストローク ・基板シャッター ・ドライポンプ(RP標準) ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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