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【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)
PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-
書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか! 新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会
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『紫外線洗浄・改質ガイド』※仕組、評価方法、アプリケーション例も
PR電子部品製造等における洗浄工程の改善ヒントに!初心者にもわかりやすく解…
「紫外線による洗浄・改質技術」は、電子部品、半導体、光学製品などの 製造プロセスで幅広く活用され、ガラス、樹脂、金属などの各種素材に 密着度や親水性の向上、濡れ性改善などの様々な効果を生み出す技術です。 【紫外線洗浄改質の特徴】 ・大気中での処理が可能なドライプロセス ・製品表面へのダメージが極めて少ない(材料・条件による) ・様々な形状や大きさの製品に対応可能 『紫外線洗浄...
メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社
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ユニークなウエハー移載機搭載のバッチ処理装置から枚葉処理装置まで、世界…
2.45GHzのマイクロ波で励起された高密度のプラズマと、イオンの運動エネルギーを抑制することで、ダメージレスのプロセス結果を得ることができます。 ウエハープロセスにおけるアッシング、レジスト剥離、MEMSなどのSU-8レジストアッシング、デスカム処理、基板の表面クリーニングや表面活性化など、幅広いアプリケーシ...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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世界中のOSATのお客様向けに多くの実績があり、信頼性のあるパフォーマ…
マイクロ波(2.45GHz)により高密度のプラズマを生成することで、非常に効果的な表面処理が可能となります。また、お客様の様々なパッケージング工程に対応したプロセス形態をご選択いただくことができます。 ダイアタッチ、ワイヤーボンディング、フリップチップ、アンダーフィル、 樹脂封止を含むチップパッケージングにおいて、基板のクリーニング、表面活性化の為に設計さ...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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REACH規制適合『塩浴軟窒化処理技術(CLINプロセス)』
耐摩耗性・耐食性・耐焼付性などを向上。実績資料を進呈
HEF DURFERRIT JAPAN株式会社 -
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株式会社日本製鋼所 樹脂機械事業部 -
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株式会社テクノカシワ -
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業務フローの早期段階、金型を製作する前のCAE解析で問題点を事…
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ソリッドワークス・ジャパン株式会社 -
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株式会社大手技研 -
JUKI新製品公開!6/12~14実装プロセステクノロジー展出展
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エイチアールディー株式会社 本社・大阪第一支店・大阪第二支店・名古屋支店・豊田支店・東京支店・HRD-THAI -
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日本ゴア合同会社