高品位真球状活性炭のご紹介

PR真球に近い形状のため、流動性に優れており排水処理での使用が非常に多いで…

大阪ガスケミカルが80年以上に渡り、高度な賦活、精製技術をもって開発した高品位活性炭「白鷺」の技術をもとに、3つの用途で効果を発揮します。 【用途例】 ■金属触媒除去用活性炭 木質原料の粉末活性炭です。医薬品、有機電子材料の分野にて、残留金属除去用として実績があります。 ■真球状活性炭 石炭系原料の真球に近い形状の球状活性炭です。その形状から流動性に非常に優れ、SS分の付着堆積も...

メーカー・取り扱い企業： 双葉化学株式会社

高精度鋳造解析ソフトウェア　ProCAST

PRプレス成形や鋳造時の不具合予測や溶接・熱処理時の変形、残留応力状態予測…

ESIの金属加工ソリューションでは、プレス成形や鋳造時の不具合予測や 溶接・熱処理時の変形、残留応力状態予測が可能です。プレス成形品の 溶接においてはプレス成形シミュレーションと溶接シミュレーションの 連成によって、さらに高精度な解析も可能です。 ■ウェビナー名：未来の製造業におけるシミュレーション技術の革新 　自動車、航空宇宙、重機産業を支えるバーチャルシミュレーション技術 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本イーエスアイ株式会社

ホットワイヤーソース『HWCV/DCAT-CVD/ICVD』

触媒CVDおよびiCVDアプリケーション向け！統合されたガス分配システ…

当社では、触媒CVDおよびiCVDアプリケーション向けにホットワイヤーソースを 提供しています。 インラインおよびダイナミック製膜プロセスには特殊な直線形エネルギー源が 利用可能。 特殊設計のソースフランジ、すばやく取り付けができるワイヤーコンポーネント によって構成されており、必要に応じて、単にユニット毎に交換することで...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

リニアPECVDプラズマ源

物理蒸着(PVD)プラズマ源以外に、様々な化学的気相成長(CVD)プラ…

波数による製膜が想定される場合でも、巧みに取り扱うことができます。 【特長】 ■連続移動する基板には容量結合ダイナミックPECVD ■連続供給シート、キャリア、またはロール・ツー・ロールプロセス ■側面に統合されたガス分布システム ■組込まれたプロセスガス排気システム ■自由な運転姿勢：上向き、下向き、垂直 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

ホローカソードソース『HCS』

プロセス適合のために電極間隔を自由に調整可能！低放電電圧で穏やかな処理…

『HCS』は、ホローカソードとアノードの組込みが特長の表面処理 コンポーネントです。 電子はカソードの深い溝壁の電位降下間に制限されています。これにより、 ガスのイオン化が促進され、プラズマ密度も増加。溝の中にプラズマを押し込むと、 電極プレートの下に非常に強力で明るいプラズマが生まれます。 シンプルでスケーリング可能な設計で頑丈の挙動および簡単なカスタマイズを 実現。高密度プ...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社