薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

【技術記事】ノンシーケンシャル光学系を最適化する方法

ユーザはシステムパラメータ変数を設定しメリットファンクションエディタで…

ticStudio の最適化機能により、ユーザはシステムパラメータ変数を設定し、メリット ファンクション エディタでパフォーマンス基準を定義することにより、設計を改善できます。 この最適化のプロセスは設計に大きな影響を与える可能性があるため、適切な変数と基準を選択することが重要です。使用可能な基準のタイプは、シーケンシャルモードとノンシーケンシャルモードで異なります。この記事では、ノンシーケ...

メーカー・取り扱い企業： アンシス・ジャパン株式会社

【技術記事】座標ブレーク面を使用した2つ面の最小距離の取得

ZPL オペランド:座標ブレーク面を使用した 2 つ面の最小距離の取得

最適化プロセスでは、通常、2 つのレンズの間に適切な距離を設定して、レンズが干渉しないようにする必要があります。しかし、現在のメリットファンクションのオペランドは、座標ブレーク面を使用したレンズをサポートしてい...

メーカー・取り扱い企業： アンシス・ジャパン株式会社