• 電子機器トータルソリューション展2024出展のご案内 製品画像

    電子機器トータルソリューション展2024出展のご案内

    PR高品位微細印字で幅広い素材にも対応できる「新型基板マーキング装置」と「…

    「最先端クラスのプリント基板製造に提供する新たなソリューション」をテーマに 三菱電機株式会社様ブースにて「新型基板マーキング装置」と「基板分割機」の 実機を展示いたします。 「新型基板マーキング装置」はプリント基板のトレーサビリティに必要な二次元コードや 文字の高速微細印字および多様な素材に対応した高精細印字をご提案いたします。  ※ブースにご来場いただいたお客様へ先着順で記念品をプレゼント! ...

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    メーカー・取り扱い企業: 名菱テクニカ株式会社 三菱電機グループ

  • 小型通気式固体培養装置 製品画像

    小型通気式固体培養装置

    PRシンプルな構造とすぐれた操作性!微生物によるものづくり

    『小型通気式固体培養装置』は、実用規模の固体培養装置と同質の 基質通気式品温制御を採用した製品です。 産業化を想定した通気式固体培養を再現性高く行うことが可能。 また、品温制御が連続基質通風方式のため、産業化を見据えた培養実験を 小規模で再現性高く行うことが出来ます。 原料投入から洗浄までの全ての工程を一人で対応できるシンプルな 構造と優れた操作性は、高い評価を得ています。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジワラテクノアート

  • エントランスホール空調解析 製品画像

    エントランスホール空調解析

    基本設計段階においてエントランスホールの空調解析を行いました。

    解析の対象としたエントランスホールは、高さ約20mの吹き抜けを持つ大きな空間です。その基本設計段階において、居住域の温度分布・気流分布が空調空気の吹出位置、数、風速、温度などにより問題がないかを確認することは、快適性、省エネ性を検...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社環境シミュレーション

  • 【資料】有機エレクトロニクス 製品画像

    【資料】有機エレクトロニクス

    有望な候補物質を判別!デバイス最適化の条件に適合するような化合物の選定…

    合物の選定にも有用です。 具体的には、密度汎関数理論(DFT)を使用して、有機EL材料開発に関係する以下のような分子プロパティを計算可能です。 ・酸化ポテンシャル ・還元ポテンシャル ・ ホール再配向(再配列、再配置)エネルギー ・電子再配向エネルギー ・3 重項エネルギ ー ・3 重項再配向エネルギー ・吸収スペクトル ・TADF S1-Tx ギャップ ・蛍光 薄膜...

    メーカー・取り扱い企業: シュレーディンガー株式会社

  • 【事例】パナソニック 有機エレクトロニクス向け材料新規設計 製品画像

    【事例】パナソニック 有機エレクトロニクス向け材料新規設計

    パナソニックとシュレーディンガー、ホール移動度を向上させた50以上の新…

    列挙など、シュレーディンガー社が提供する計算能力と専門知識を活用して分子材料の新規設計を行いました。 当カタログは、シュレーディンガーがパナソニック社と取り組んだ、『有機エレクトロニクス向けホール伝導性分子材料の新規設計』の事例集です。 ぜひ、ご一読ください。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: シュレーディンガー株式会社

  • 【製品総合ガイド】材料研究開発を加速する高速分子シミュレーション 製品画像

    【製品総合ガイド】材料研究開発を加速する高速分子シミュレーション

    高速分子シミュレーションによる材料研究開発を支援!当社の製品概要をご紹…

    / 酸化・還元ポテンシャル/ 3重項励起状態エネルギー/TADF S1-Txギャップ/蛍光/りん光/振動計算/ 構造最適化/遷移状態計算/反応経路解析/吸着エネルギー/結合解離エネルギー/ 電子・ホール移動度/再配向(再配列、再配置)エネルギー ■分子力学(MM)法・分子動力学(MD)法・粗視化MDによる物性予測 密度/配座解析/架橋構造/ヤング率/粘度/表面張力/ ガラス転移温度(Tg...

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    メーカー・取り扱い企業: シュレーディンガー株式会社

  • 表面形状・シミュレーション・モジュール(FPSM3D) 製品画像

    表面形状・シミュレーション・モジュール(FPSM3D)

    初期形状はトレンチ、ホールで与えることが可能!基板、堆積膜の経時変化を…

    ルロ法を用い、セル法により固体層占有率、表面被覆率を  考慮し形状を表現 ■ガス種、反応式、錯体、そしてポリマーなどの数に制限はない ■3次元直交メッシュで定義されるが、初期形状はトレンチ、ホールで  与えることが可能 ■入射粒子情報はPEGASUS気相モジュール、PEGASUS表面科学系モジュールからの  出力を使用するか、もしくは当製品が備えている入力方法で使用者が指定 ■反応...

    メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社

  • 電気めっき解析 Elsyca PlatingManager 製品画像

    電気めっき解析 Elsyca PlatingManager

    めっき品質評価と効率的なめっき工程を検討できる電気めっきプロセスシミュ…

    オンセミナー随時開催中。お問い合わせください。 【展示会情報】  ▸nano tech(SURTECH同時開催)   日時:2024年1月31日~2月2日   会場:東京ビッグサイト東ホールSK-17ブース ...

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    メーカー・取り扱い企業: SCSK株式会社 デジタルエンジニアリング事業本部

  • 高輝度発光ダイオードデバイスシミュレータ 製品画像

    高輝度発光ダイオードデバイスシミュレータ

    高輝度発光ダイオード(SLED)の3次元モデリングツール

    く理論モデルを解説。テストデバイスを用いて解析。(横モード(lateral mode)のプロファイル 利得(gain) バンド図(band diagram) 異なる注入におけるキャリア分布 空間的ホールバーニング(spatial hole burning) I-V特性(I-V curve) L-I(L-I curve) 自然発光の強度(amplifier spontaneous emission...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 高出力SCOWLレーザのシミュレータ 製品画像

    高出力SCOWLレーザのシミュレータ

    スラブ結合光導波路レーザの解析ツール

    プラズマモデルが妥当な結果を与える。LASTIPはLASTIPはSCOWLタイプの高出力レーザーにおいて横モードの振舞いの正確な見積を提供する。長い共振器のようなさらに踏込んだ解析には、軸方向空間ホールバーニング(longitudinal spatial hole burning)と端面光ダメージ効果(facet optical damage effect)を考慮する必要があるためPICS3Dを...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • PICS3D(Fabry-Perot Edition)     製品画像

    PICS3D(Fabry-Perot Edition)

    2次元に特化した半導体レーザ向けデバイスシミュレーションプログラム(旧…

    メッシュも2次元で設定するため収束がよりスムーズ <多様な物理モデルや機能> ■光出力-電流(L-I)特性 ■電流-電圧(I-V)特性 ■2次元ポテンシャル、電場、電流分布 ■電子とホール密度の2次元分布 ■様々なバイアス条件の下でのバンド図 ■半導体中の深いレベルのトラップの占有数と密度の2次元分布 ■2次元多重横モードの光学場分布 ■2次元局所光学利得分布 ■バイアス...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • フォトニック結晶LEDのデバイスシミュレータ 製品画像

    フォトニック結晶LEDのデバイスシミュレータ

    フォトニック結晶LEDのデバイスモデリングと解析ツール

    ージョンモデル(drift-diffusion model)。物理シミュレーションによるバンド解析。自然放出(spontaneous emission)と導波モード(guided mode)。エアホール(air hole)の深さの考察など。)また、InGaN フォトニック結晶LEDを題材に多導波モード(guided multimodes)の解析も紹介。これらのシミュレーション結果は、報告されてい...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

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