• 特許取得Pef Prism疑似立体印刷 製品画像

    特許取得Pef Prism疑似立体印刷

    PRRef Prism

    2次元印刷に新たな表現方法 デザインの曲線部を強調! 曲線のエッジが光る効果を表現 レンズフィルムの種類によって曲線部に多種多様な表現が可能! 白印刷部の濃淡で光る効果の強弱調整により更に表現の幅広さを持たせる効果も 加工材料 ・テープ類 一般用、強粘着、遮光、防水、導電性 他 合成樹脂類 ポリ塩化ビニール(PVC)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレンテレフタレート(...

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    メーカー・取り扱い企業: 智昌加工株式会社

  • ビッカース硬さ試験機 FALCON500G2 製品画像

    ビッカース硬さ試験機 FALCON500G2

    PRFALCON 500G2はマイクロ、マクロビッカース、ヌープ、ブリネル…

    FALCON 500G2は、様々な要求に応える幅広い試験力構成の選択肢を持ち、ハードウェアを完全に統合することで、お客様の業界特有の試験タスクに確実に適合させることが可能です。 最高レベルのメカニカルデザインから生まれたベースユニットのロードセル、クローズドループシステムは、マニュアルまたはデジタルマイクロメータ、あるいはより快適な試験環境を実現するモーター駆動のCNCステージと組み合わせて完成さ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イノバテスト・ジャパン 本社

  • イオンビーム描画装置OMFシリーズ 製品画像

    イオンビーム描画装置OMFシリーズ

    ビューラー・ライボルトオプティクス(旧OPTEG社)のイオンビーム描画…

    プロセスを提供しています。 研究開発用途から大量生産の大型設備まで様々な真空チャンバーサイズを取り揃え、お客様の多様なニーズにお応えいたします。 2018年より新たに真空中で超精密光学レンズの表面研磨をイオンビームにて行うIBF装置を世界に展開していきます。 【特長】 ■精密光学に用いられる各種基板材料の表面をイオンビームで処理加工しλ/200の超精密研磨が可能! ■レーザ...

    メーカー・取り扱い企業: ビューラー株式会社

  • ナノフォーカスX線管用高圧電源 XE303XP 製品画像

    ナノフォーカスX線管用高圧電源 XE303XP

    サーマルFEエミッタを使用した軟X線管専用の駆動電源「XE303XP」…

    本製品は、加速電源、フィラメント電源、サプレッサ電源、エキストラクタ電源、静電レンズ電源で構成されており、コントローラを標準搭載しています。 ●より詳細な仕様については、カタログをダウンロードしていただくか、お問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: フューテックス株式会社

  • 全自動レーザーリペア装置 製品画像

    全自動レーザーリペア装置

    FPDのセルパネル欠陥に対し、ITOパターンをカットして修正可能。

    ■特長 1.本装置は、大型ステージに明視野顕微鏡を搭載したレーザーリペア&レビュー装置です。 2.ITO膜の欠陥箇所の確認や、画像ファイリングなどが可能です。 3.明視野顕微鏡、対物レンズ、レーザースリットはパターンに合わせたθ(シータ)回転用スリット内蔵、ガントリー型XYリニアステージ(MAX:1380×2300対応)、モニターシステム、大型ステージ、PCシステムなどです。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社清和光学製作所

  • トップハットビームシェイパー テクノロジー 製品画像

    トップハットビームシェイパー テクノロジー

    滑らかな非球面レンズにより、特定の波長に制限されない高精度なトップハッ…

    `Proprietary Top-Hat Beam Shaper TECHNOLOGY` かつてない独自技術(特許取得)のトップハットビームシェイパーです。 従来技術のDOE(Diffractive Optical Element)と同じように光の回折を利用してガウシアンビームをトップハット(均一な強度分布)に変換しますが DOE と異なり、以下のような特徴を持ちます。 *ひとつの素子で、広い...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社 彩世

  • レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ 製品画像

    レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

    高速高解像度レーザー露光装置

    『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEM...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • 株式会社PARAM 会社案内 製品画像

    株式会社PARAM 会社案内

    超高速電子ビーム描画技術・要素技術の開発・製造・コンサルティング!微細…

    【電子線高速描画システム技術】 ■マルチビームマルチコラムシステム ■高輝度電子銃 ■小型レンズ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社PARAM

  • 表面処理装置 走査型イオン銃 「40E1型」 製品画像

    表面処理装置 走査型イオン銃 「40E1型」

    表面処理装置 走査型イオン銃

    2段の射出レンズにより、イオンビームのスポット径が容易に調整できる収束型イオン銃です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノポート

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