• フッ素系溶剤で精密洗浄とランニングコスト削減を実現する洗浄装置 製品画像

    フッ素系溶剤で精密洗浄とランニングコスト削減を実現する洗浄装置

    PRパーティクル除去性能と溶剤の低消耗の2つの機能を兼ね備えたフッ素系真空…

    真空超音波洗浄装置「SAUBER/ザウバー」は、パーティクル除去に特化し、 精密洗浄に有効な多くの機能を搭載しながら溶剤の低消耗を実現する1槽式真空密閉型洗浄装置です。 従来から純水洗浄で行われているパーティクル除去・除塵洗浄をフッ素系溶剤洗浄で行うことが可能です。 純水と比べるとフッ素溶剤は排水が出ないクローズドシステムですので、工場側排水設備への負荷がありません。 また、液の再生利用も容易...

    メーカー・取り扱い企業: 富士ハイテック株式会社

  • 粉体定量供給機『ロータリーバルブ』<課題解決事例を進呈中> 製品画像

    粉体定量供給機『ロータリーバルブ』<課題解決事例を進呈中>

    PR自社工場での一貫製作により高品質・短納期を実現。カスタム・フルオーダー…

    当社では、粉粒体の定量供給と密閉遮断を担う 『ロータリーバルブ』を提供しています。 食品など高い衛生管理が求められる分野でも実績豊富。 設計・製造から最終加工まで自社工場で一貫対応しているため、 高品質・短納期を実現できます。 課題解決事例を紹介した資料を進呈中。 詳しくはダウンロードボタンよりご覧ください。 【こんな課題を解決します】 ■機械の能力アップをしたいが、サ...

    メーカー・取り扱い企業: 尾崎ウェルスチール株式会社 本社、機械加工工場、歌島工場、粉体工学研究所

  • 高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V) 製品画像

    高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

    少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…

    膜安定性  ・ウェハ反り矯正機能(特許取得済)によるSiCウェハ対応  ・低負荷・長周期メンテナンス  ・コンパクト筐体とミラータイプとの隣接設置による省スペース対応  ・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】  ・パワー半導体用層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG)  ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG)  ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V) 製品画像

    高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

    量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…

    対応ウェハサイズ: ~8インチ)  ・真空・プラズマ不要 (熱CVD)  ・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネーション)対策  ・シンプルメンテナンス  ・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】  ・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール(NSG)  ・パワー半導体用層間絶縁膜(NGS/PSG/BPSG)  ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」 製品画像

    ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

    FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

    【特徴】  ・低温(150~300℃)成膜  ・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜  ・シンプルメンテナンス  ・低CoO(低ランニングコスト)  ・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル  ・導入・維持コストの削減: 小フットプリント、真空・プラズマ処理不要 【用途】  ・FPD向け...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501) 製品画像

    小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

    試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

    時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・異形状・サイズ基板の同時処理  ・高い成膜速度  ・シンプルメンテナンス  ・省フットプリント  ・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】  ・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG)  ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG)  ・太陽電池(セ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200) 製品画像

    高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

    量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…

    応ウェハサイズ: ~12インチ)  ・真空・プラズマ不要 (熱CVD)  ・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネーション)対策  ・シンプルメンテナンス  ・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】  ・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタロ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • クラスター装置『Morpher』 製品画像

    クラスター装置『Morpher』

    デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供!

    Morpher ALDシステムは、業界標準の枚葉ウエハ真空クラスタプラットフォームを組み込み、ウエハバッチを完全自動処理するように設計されています。 米国特許取得済みのウエハバッチフリップ機構により、他の半導体製造ラインとのシステムの統合が可能で、またSEMI S2/S8認定により、当システムが業界の最も厳しい規格と互換性があることが保証されています。 Morpher ALDシステムは、...

    メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社

1〜6 件 / 全 6 件
表示件数
30件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。