• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

    • S500-on-customer-site.jpg
    • PQL PIC.jpg
    • 20170928_160044.jpg
    • PlasmaQuest-HiTUS-Difference-1.png

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • Kvaser Leaf v3 製品画像

    Kvaser Leaf v3

    PRUSBタイプAコネクタ経由で電力供給!最大8Mbit/sのCAN FD…

    『Kvaser Leaf v3』は、CANおよびCAN FDデータをモニタリングおよび 送受信するためにPCをCANバスネットワークに接続する簡単で低コストの製品です。 洗練された人間工学に基づいたデザインのハウジングは、日常使用に十分な 堅牢性を備えていると同時に、スペースに制約のあるアプリケーションでも使用可能。 1秒あたり最大20,000のメッセージを処理でき、各メッセージに...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社Renas

  • 企画~販売まで。化成品に必要な全工程をカバー【化成品のコンサル】 製品画像

    企画~販売まで。化成品に必要な全工程をカバー【化成品のコンサル】

    商品開発から改善提案まで様々ですが、煩雑な調整業務や無駄を省くことで、…

    路を見出して頂くことが醍醐味です。 【成約事例】 ■接着剤のみではなく、相性の良いフィルムとセットでご提案 ■両面テープを新規用途に展開 ■最終工程まで一貫で管理することによりスムーズな供給を実現 ■加工方法の変更をご提案することでコスト、納期を最適化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 阪南化成株式会社

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg

PR