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希釈精度”±0.2%”でクーラント液を送液!クーラント希釈装置
PR設定した濃度でクーラント液を自動送液!ムラを低減し加工品質の安定に貢献…
『MX-600C』は、設定した濃度でクーラント液を自動送液できる クーラント自動希釈装置です。 工作機械の加工で欠かせないクーラント液は、 人の手による混合も多く、そのムラが加工不良につながる可能性もございます。 当社の装置では、供給される工水の量に応じて 設定された濃度になるよう油を攪拌させながら自動供給を行います。 精度の高い流量計を用いて管理するので希釈制度は設定値±0.2%で供給が可...
メーカー・取り扱い企業: リックステクノ株式会社
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PR扱いやすい超小型。出力0~3.0Vで、5~24Vの電源供給に対応。セン…
温湿度アナログ変換出力モジュール『SCM-DA2』は、 温湿度測定の負担を減らせる製品です。 電源を入れるだけでセンサを自動認識し、 温湿度センサのデジタルデータをアナログに変換・出力します。 出力は0~3.0Vと分かりやすく、5~24Vの電源供給が可能です。 PLC、電圧データロガー、パネルメータなどに接続して活用できます。 【特長】 ■Sensirion(センシリオン...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社シスコム(SysCom)
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ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜プロセスの構築など、幅広い研究に対応できる装置です。 これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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硫化物対応も可 薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット~成膜…
3インチカソード3元を装備した標準型スパッタ装置をカスタマイズ。 専用ターゲットとグローブボックスを標準装備。 Li系複合酸化物 硫化物等ターゲットも供給。有償にて成膜テストに対応 実績豊富な研究開発用スパッタ装置の基本仕様を踏襲、小径ターゲットを使用し大面積(φ180)への成膜が可能。 基板加熱ヒーターと基板水冷機構を標準装備し幅広い成膜条件を...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース
【主な仕様】 ターゲット直径:2インチ ターゲット厚さ:最大6mm(材料に依存) DC電源:720W(600V, 1.2A) RF電源:300W(13.56MHz) ガス供給:ガスフード経由 冷却:水冷(1L/分)...
メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社
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リモートソース型イオンビームスパッタ装置 リモートプラズマソースの開発…
ヘリコン型 高密度イオンソースの開発販売、及び 応用製品の開発販売で25年の歴史を持つ優良企業です。 グリッドレスで高密度なプラズマを発生させるヘリコンプラズマソースは、多くの装置メーカーにOEM供給を続けていおります。 その高品位なプラズマソースをイオン源として、ターゲットにバイアス印加を行う画期的な手法「HiTUS」システムにより、様々な条件やターゲットを用いてのスパッタを実現しています。 ...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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酸化被膜防止を目的としたプレスパッタリングが必要なく工数削減が可能!熱…
当社は特殊な製法により割れを低減させたSiターゲットを供給しております。 現状、割れが多く発生すると言われているSiターゲットですが、 弊社の特殊製法により割れを低減させることが可能です。 その他の各種金属材料や酸化物、合金ターゲットなど ...
メーカー・取り扱い企業: USTRON株式会社
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高真空及び超高真空に対応可能の真空部品
日揚科技(Htc)は供給している真空フランジはKF(NW)シリーズ、ISOシリーズとICFシリーズの3種類があります。ICFフランジシリーズ は製品多様に揃えています。 ICFシリーズフランジを分類すると固定型、回転型、...
メーカー・取り扱い企業: 日揚科技股份有限公司
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