リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

計数機

重量から数量管理へ 極微小ワークの数を高速＆正確にカウント

特長】 ■これまでは極微小な製品を出荷する際には、既定本数を高速かつ正確にカウントする手段が無かった為、多くの場合は総重量を計測して出荷していました。 ■計数機は、単列或いは複数列の溝にワークを供給し、溝上を流動するワークを光電センサー若しくはラインセンサ―カメラで撮像し、正確にその総本数を計測するものです。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒューブレイン