• フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】 製品画像

    フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

    PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

    本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

  • 【資料】アルミニウム製品のめっき・表面処理による価値向上 製品画像

    【資料】アルミニウム製品のめっき・表面処理による価値向上

    PRアルミニウムの特性などを掲載したホワイトペーパーをご紹介!

    当ホワイトペーパーは、「アルミニウム製品のめっき・表面処理による 価値向上」についてご紹介しております。  「アルミニウム」は、軽くて強く、色々な形に加工しやすく、リサイクル できて美しい優れた金属です。  当社は、日本で長年アルミニウムへの表面処理の研鑽を重ねてきました。 アルミニウムを知っているからこそ、適切な表面処理が可能になります。 【掲載内容】 ■アルミニウムの...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シルベック 本社工場

  • バッチタイププラズマリフロー装置(フラックスリフロー) 製品画像

    バッチタイププラズマリフロー装置(フラックスリフロー)

    微細ウェハバンプのフラックスレスリフロー装置 サンプルテスト対応 省…

    高密度プラズマ(SWP)による強還元性H2ラジカルによりフラックスフリーのバンプリフローを実現。 フラックスの塗布・洗浄工程を削減。リフロー前後のウェット工程を削減。ウェット装置のスペース・処理・ユーティリティーを削減する省エネ・省スペース・クリーンプロセス。 300mmウェハ対応の処理ステージによる最先端量産プロセスをバッチタイプのハードで小径基板のニッチデバイスに対応 短タクトのバ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • CVD装置用真空排気装置(塩素系ガス対応真空ポンプユニット) 製品画像

    CVD装置用真空排気装置(塩素系ガス対応真空ポンプユニット)

    熱CVD装置の排気に実績多数。Cl系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩…

    のプロセス特性・ガス種・排気量に合わせてポンプ材質と周辺機器を最適化。 主排気ポンプの水封式真空ポンプを封液循環式とし、循環式封液にアルカリ性溶液を使用し、塩素系ガスの排気と中和を両立。後段のガス処理装置の負荷を大きく削減。 特に表面処理用の熱CVD装置の塩素系ガスの排気系に有効で工具や金型・半導体用治具の生産に多数使用中。 Siエピタキシャル成長時やエッチング時のの塩素系ガスの排気にも応用...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • イットリアコーティング装置(AF-IP装置) 製品画像

    イットリアコーティング装置(AF-IP装置)

    耐プラズマ性に優れたイットリア(Y2O3)膜をPVD法で形成。 新開…

    ンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現。 イットリア膜だけでなくSiCやTiC、CrNなどの各種反応膜を固体金属材料より形成可能。 独自開発イオンプレーティング法により表面処理の新たな用途を開拓...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

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