温度制御システムタンク『RKMH シリーズ』（加圧・真空タイプ）

PR撹拌真空、圧送、温度制御を1台で！加熱撹拌、真空脱泡、加熱などの用途で…

電熱線の内蔵されたマントルヒーターをタンクに取り付け タンクを直接加熱しPID制御にて温度制御を行います。 温度制御は温度制御コントローラーにて調整可能です。 撹拌粘度、撹拌目的に応じて撹拌機・撹拌羽根を設計、製造します。 また、10L以外の容量も製作可能です。その他、ご要望に合わせてオーダーメイド製作致します。常圧仕様もお取り扱いしております。 詳しくはお...

メーカー・取り扱い企業： 加藤ステンレス科学株式会社

溶接部予熱・焼鈍、金型予熱等にお困りの方へ！

PR【アルミナ碍子使用】多種多様なワークの「どこを」「なぜ」「何度に」加熱…

当社は、フレキシブルな構造により被加熱物の形状に合わせて縦横自由に 設計可能なFCPヒーターをはじめ、各種取り揃えています。 独自の加熱技術のノウハウを駆使して、お客様がワークの「どこを」「なぜ」 「何度に」加熱したいのか、ご条件やご状況をお聞きして、好適なヒーターを 提案・提供します。 また、アルミナ碍子を使用しており、高温時における電気絶縁性や機械的強度に 優れています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 熱産ヒート株式会社 本社

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャ…

『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大50mm...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-Premium』

最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロッ…

『AS-Premium』は、大気・真空下プロセスに対応しているRTP装置です。 アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ)で、 低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーターとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大156mm×156mm基板対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-Master 200』

ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

『AS-Master 200』は、アニール処理後急速冷却機構のRTP装置です。 最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、 真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。 また、大気・真空下プロセスに対応しており、ターボポンプ搭載可能。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-One 100/150』

アニール処理後急速冷却機構！Annealsys社の高速熱処理装置をご紹…

【仕様】 ■AS-One 100 ・最大100mm径基板対応 ・最大温度：1450℃(基板上部ランプ加熱式) ・最大昇温レート：200℃/秒 ・低温(1100℃)/高温(1450℃)パイロメーター ■AS-One 150 ・最大150mm径基板対応 ・最大温度：1300℃(基板上部ランプ加熱...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ