• 【加熱テスト可能】高周波誘導加熱装置 製品画像

    【加熱テスト可能】高周波誘導加熱装置

    PRワークを持参いただければ加熱テストも可能です!量産工場向け、自動ワーク…

    『HEATCUBE』は、誘導加熱により、非接触で金属を加熱する装置です。 一般的なガスバーナーによる加熱に比べ、作業時間の短縮、作業員による 加工精度のバラツキをなくす、CO2排出量の削減が見込まれます。 量産工場向け、自動ワーク供給等にも対応いたします。 なお、ワークを持参いただければ、加熱テスト可能です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■作業時...

    メーカー・取り扱い企業: 玉川エンジニアリング株式会社

  • 【技術資料進呈!】知っておきたい「炉体のない加熱炉」 製品画像

    【技術資料進呈!】知っておきたい「炉体のない加熱炉」

    PR加熱炉なのに炉体がいらない?熱処理技術を実現するための炉体なしの加熱炉…

    工業界では多くの熱処理が行われており、多くは直接加熱である抵抗加熱や 誘導加熱、または間接加熱である対流加熱という手法が用いられています。 この対流という加熱原理には通常炉体が必要になります。 しかし、炉体を必要としない加熱方法もあることをご存知でしょうか。 本資料は、加熱原理の比較の説明から、炉体のない加熱炉をどのように 応用できるのかなどを丁寧に解説しています。 【掲載内容...

    メーカー・取り扱い企業: エクセリタスノーブルライトジャパン(旧ヘレウスノーブルライトジャパン)株式会社

  • BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃ 製品画像

    BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

    【UHV対応 真空薄膜実験用 面状加熱ヒーター】 大学・研究機関のお…

    3種類のサイズ(Φ1, 2, 4inch)、豊富なヒーター素線バリエーション(Kanthal, Graphite, C/C Composite, SiC coating, W)、部品在庫を持つことにより短納期・安価な価格を実現しました。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ● 取り扱いが簡単(M6スタッドボルト、支柱) 【標準付属品】 ● 熱電対:K素線タイプ アルミナ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』 製品画像

    アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセス...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

    卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…

    用(るつぼΦ50 x 100), 又はΦ1"〜Φ4"ウエハー焼成用フラットヒーター ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置 製品画像

    【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

    【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

    【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統(CH4, Ar, H2, バブラー用)MFC高精度流量制御:精度±1% F.S. ◉ キャパシタンスマノメータ(バラトロンゲージ)による高精度APC圧力制御 ◉ Lab View...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆ 製品画像

    ◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ 製品画像

    【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃

    卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…

    用(るつぼΦ50 x 100), 又はΦ1"〜Φ4"ウエハー焼成用フラットヒーター ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』 製品画像

    アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…

    ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート:真空・パージ(3 cycle)〜 ベントまでを自動シーケンス制御(標準) ・手動プロセス圧力制御(標準):手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲:φ4-φ8inch(その他サイズ可能) ・高真空対応(ターボ分子ポンプ) ◆オプション◆ ・フルオート自動プロセス運転(オプション) ・自動APC制御(オプション): -1) Ups...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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