• 新規次世代パワー半導体の研究開発拠点を開所 製品画像

    新規次世代パワー半導体の研究開発拠点を開所

    PR低損失化、高耐圧化、小型化の面で優位性を持つ、GeO2半導体の製膜事業…

    株式会社クオルテック(本社:大阪府堺市、以下「クオルテック」)は、 「滋賀県立テクノファクトリー」内に、新規半導体材料を使用した パワー半導体の製膜における研究開発拠点を開所しました。 開所式にはクオルテックが本研究開発に関して資本業務提携し、 「琵琶湖半導体構想(案)」を推進する立命館大学発ベンチャー、 Patentix株式会社(本社:滋賀県草津市)も出席し、開所式を行いました。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クオルテック

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    【精密機器用】『ステンレス製六角穴付きボルト』

    PRドローン、半導体製造装置、医療機器、設備等に向けた、錆びにくい精密機器…

    『ステンレス製六角穴付きボルト』は、 ドローン・半導体製造装置・医療機器・小型ロボット・その他設備等に向け、 錆びにくい精密機器用六角穴付きボルトを規格化しており、量産用途に適した圧造製品です。 加工が困難なステンレス材を使用した、六角穴付きボルトの超微細サイズも規格化しています。 M1.0という非常に小さい製品もあり、締結部品としてご使用頂くだけではなく、 小型ドローンや小型ロボッ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ユニオン精密

  • 【分析事例】半導体基板中軽元素の高感度分析 製品画像

    【分析事例】半導体基板中軽元素の高感度分析

    SIMS分析によりH, C, N, O, Fなどを1ppm以下まで評価…

    他手法では評価が難しい半導体基板中のH,C,N,Oを1ppm(約5E16atoms/cm3)以下まで、Fを1ppb(約5E13atoms/cm3)以下の濃度まで検出可能です。実際のFZ-Si中における測定例(図1)とIII-...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 第一原理計算によるワイドギャップ半導体GaNにおける欠陥準位解析 製品画像

    第一原理計算によるワイドギャップ半導体GaNにおける欠陥準位解析

    点欠陥の形成エネルギー、電荷、光学遷移など様々な物性情報が得られます

    ワイドギャップ半導体である窒化ガリウム(GaN)は主にパワーデバイスの分野で用いられ、近年では急速充電器や5G通信基地局用途としての需要が高まっています。高信頼性を有するGaNの開発にあたっては、結晶中の欠陥量の低減...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】半導体パッケージのはんだ濡れ性試験_C0699 製品画像

    【分析事例】半導体パッケージのはんだ濡れ性試験_C0699

    劣化加速試験後の電極のはんだ濡れ性試験が可能です。

    半導体を多く使う電子機器では各部品をはんだ付けにより実装しています。このはんだ接合部に不良が生じると電子機器に不具合が生じます。その為はんだに関して濡れ性を評価することは部品の信頼性を評価するうえで重要です。今回は疑似的に試料を劣化させ、はんだの濡れ性がどうなるかを検証しました。恒温恒湿試験後、電極表面の濡れ性が変化することが分かりました。 測定法:恒温恒湿試験,はんだ濡れ性試験 製品分野:パワーデ...

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    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】ワイドギャップ半導体β-Ga2O3のドーパント存在 製品画像

    【分析事例】ワイドギャップ半導体β-Ga2O3のドーパント存在

    ミクロな原子構造を計算シミュレーションによって評価可能

    β-Ga2O3は広いバンドギャップを有し、優れた送電効率や低コスト化の面で次世代パワーデバイスや酸化物半導体の材料として期待されています。近年、β-Ga2O3はSiまたはSnのドーピングでn型化することが報告されています。本資料では、β-Ga2O3にSiもしくはSnをドープしたモデルに対して構造最適化計...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】SIMSによる化合物半導体の組成分析 製品画像

    【分析事例】SIMSによる化合物半導体の組成分析

    化合物半導体の主成分元素の組成を深さ方向に評価可能

    一般的にSIMSでは含有量が%を超える主成分レベルの元素の定量性は低いとされていますが、一次イオンにCs+を用いたMCs+(M:着目元素)検出モードを用いることで、主成分元素の深さ方向の組成分布を求めることが可能です。 AlGaAs中のAl,Gaについて、深さ方向の組成評価を行った例を示します。...詳しいデータはカタログをご覧ください...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • [SCM][SNDM] 製品画像

    [SCM][SNDM]

    キャリア分布を二次元的に可視化

    SCM/SNDMは、導電性の探針を用いて半導体表面を走査し、キャリア分布を二次元的に可視化する手 法です。 ・SCM:1015~1020cm-3, SNDM:1014~1020cm-3程度のキャリア濃度に感度がある ・半導体の極性(...

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  • 【分析事例】半導体のイオン化ポテンシャル評価 製品画像

    【分析事例】半導体のイオン化ポテンシャル評価

    UPS:紫外光電子分光法

    半導体では、価電子帯立ち上がり位置(VBM)と高束縛エネルギー側の立上り位置(Ek(min))より、イオン化ポテンシャルを求めることが可能です。 表面有機汚染除去程度のArイオンスパッタクリーニング後に測定を行っています。 ■価電子帯立ち上がり位置(VBM)の決定 価電子帯頂点近傍のスペクトルを直線で外挿し、バックグラウンドとの交点を求めます。 ■イオン化ポテンシャルの算出 イオン化ポテンシ...

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  • [SSRM]走査型広がり抵抗顕微鏡法 製品画像

    [SSRM]走査型広がり抵抗顕微鏡法

    ナノメートルレベルでの局所抵抗測定が可能

    SSRMは、バイアスが印加された試料の表面を導電性探針で走査し、抵抗値の分布を二次元的に計測することで探針直下の広がり抵抗を可視化する手法です。 シリコン半導体素子を計測した場合、空間分解能に依存しますが、キャリア濃度1016個/cm3以上に感度があります。 ・ナノメートルレベルでの局所抵抗測定が可能 ・半導体のドーパント濃度分布計測に有効 ・...

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  • [EBIC]電子線誘起電流 製品画像

    [EBIC]電子線誘起電流

    試料内部の電界構造(半導体の接合構造)に関する情報を得ることができる手…

    ■概要 EBIC信号を測定することにより試料内部の電界構造(半導体の接合構造)に関する情報を得ることができます。結晶中に少数キャリアのライフタイムが短くなるような箇所に敏感で、転位や積層欠陥の位置も特定できます。 ■測定原理 試料に電子線を照射すると価電...

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  • MIを用いた新規有機半導体材料の構造探索 製品画像

    MIを用いた新規有機半導体材料の構造探索

    データ駆動型アプローチから高効率に新材料の候補を提案可能です

    有機材料に限っても、存在し得る化合物構造の組み合わせは膨大であり、従来の特性を超える新材料の多くは未知の状態にあるといえます。このような膨大な組み合わせから有効な特性を持つ新材料の探索には、機械学習を用いたアプローチが適しています。本資料では、実際に課題の設定から達成まで、インフォマティクスを活用した事例を紹介します。化合物データセット、目的の特性をお客様の課題に合わせて設定することにより、同様の...

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  • 【分析事例】IGZO薄膜のXAFSによる局所構造解析 製品画像

    【分析事例】IGZO薄膜のXAFSによる局所構造解析

    酸化物半導体中、金属元素の価数・配位数・構造秩序性の評価

    透明酸化物半導体のIGZO薄膜はディスプレイ用TFT材料として研究開発が進められていますが、TFT特性の安定性の面で実用に課題が残されております。この課題を解決するためにはIGZO成膜メカニズムの解明が重要です。...

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  • 【分析事例】IGZO 薄膜の結晶性・膜密度評価 製品画像

    【分析事例】IGZO 薄膜の結晶性・膜密度評価

    酸化物半導体のXRD・XRR分析事例

    透明酸化物半導体であるIGZO薄膜はディスプレイ用TFT材料として研究開発が進んでいます。 IGZOは膜の組成・酸素欠損の有無・結晶性で大きく特性が変化する材料でもあり、膜質との相関を考慮することが重要です。加...

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  • 【分析事例】白色LEDのフォトルミネッセンス分析 製品画像

    【分析事例】白色LEDのフォトルミネッセンス分析

    白色LED中のチップ、蛍光体の発光特性の確認

    白色LEDは長寿命・省エネルギーであるため、近年需要が照明用途を中心に急激に増加しています。 白色LEDは青色の半導体チップを電気によって発光させ、その発光によって周囲の蛍光体(主に黄色)を光らせることにより白色を演出しています。そのため、発光特性の向上や劣化原因の調査においては半導体チップ・蛍光体それぞれの発光...

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  • 走査型マイクロ波顕微鏡法_SMM 製品画像

    走査型マイクロ波顕微鏡法_SMM

    Scanning Microwave Microscopy

    SMM は、導電性プローブを用いて計測試料を走査し、その凹凸形状を観察します。同時に、マイクロ波を探針から試料に照射して、その反射応答を計測することで、特に半導体の場合にはキャリア濃度に相関した信号を得ることができる手法です。SMM 信号の強度はキャリア濃度に線形に相関するため、定量性が高いことが特徴です。 ・Si デバイスの場合、1015~1020...

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  • 固体分析 新サービス開始 (GDMS) 製品画像

    固体分析 新サービス開始 (GDMS)

    「多くの元素を感度よく測りたい!」というご要望にお応えします。 主成…

    ワイドギャップ半導体材料として用いられるSiCやGaNは耐薬性が高いため完全溶解することができず、化学分析での不純物分析が困難でした。 一方、ワイドギャップ半導体市場が年々増加する中で、多くの元素を感度よく測りたい...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】α-アルミナ(α-Al2O3)のTDS分析 製品画像

    【分析事例】α-アルミナ(α-Al2O3)のTDS分析

    セラミックスの昇温脱離ガス分析

    熱的に安定なα-アルミナは耐熱材料、半導体パッケージ、半導体製造装置の部品など、幅広い用途で 利用されており、中でも緻密質のα-アルミナは真空装置の部材としても用いられます。しかしこのような 部材が昇温された際に発生するガスは製品や装...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 研究開発を強力サポート 「受託分析サービス」 製品画像

    研究開発を強力サポート 「受託分析サービス」

    お客様からお預かりした材料・製品の受託分析を行います。前処理から測定ま…

    MSTでは各種材料や研究の受託分析、受託解析、受託評価サービスを行なっています。 知識豊富な営業担当が、最適な分析プランをご提案!確かな品質と安心のサポートで、お客様に疑問を残しません。 半導体・金属・電池などのエレクトロニクス分野、医薬品・化粧品・食品などの ライフサイエンス分野の受託分析・受託解析に幅広く対応します。 ・分析手法のご相談から承っております。 ・分析費用のお見...

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  • 『X線・超音波を用いた非破壊分析の基礎と事例』※希望者全員に進呈 製品画像

    『X線・超音波を用いた非破壊分析の基礎と事例』※希望者全員に進呈

    非破壊分析の手法(超音波顕微鏡法・X線CT法)の基礎的な解説や、代表的…

    【受託サービス分析対象】 ◎LSI・メモリ ◎パワーデバイス ◎光デバイス ◎電子部品 ◎太陽電池 ◎二次電池 ◎燃料電池 ◎照明 ◎ディスプレイ ◎製造装置・部品 ◎酸化物半導体 ◎バイオテクノロジ ◎医薬品 ◎化粧品 ◎日用品 ◎食品 ◎環境 ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。...

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    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • NMR分析サービス 製品画像

    NMR分析サービス

    NMRで有機物から無機物まで、組成や分子構造を幅広く分析! 検討から…

    【分析事例】 ・電池/半導体:電解液の溶液 NMR や大気非曝露での多核・固体 NMR 測定 ・樹脂/ポリマー:樹脂成分やポリマーの組成・劣化解析が可能 ・食品/環境:食品・サプリメント中の成分の定量や劣化状態の分析 ...

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  • [SEM]走査電子顕微鏡法 製品画像

    [SEM]走査電子顕微鏡法

    高倍率観察(30万倍程度まで)が可能

    6インチまで装置に搬入可能(装置による) ・SEMにオプションを組み合わせることにより、様々な情報を得ることが可能  EDX検出器による元素分析が可能  電子線誘起電流(EBIC)を測定し、半導体の接合位置・形状を評価  電子後方散乱回折(EBSD)法により、結晶情報を取得可能  FIB加工とSEM観察の繰り返しにより、立体的な構造情報を取得可能(Slice & View)  冷却観...

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    ロックイン発熱解析法

    ロックイン発熱解析法は、電流経路中の僅かな温度上昇を検出します

    デバイスの内部で発生する熱を検出し、故障箇所を特定する半導体故障解析装置となります。高感度赤外検出器にて検出した発熱画像と、IRコンフォーカルレーザ顕微鏡で取得した高解像度なパターン画像を重ね合わせて表示することにより、高感度かつ高い位置精度で故障箇所を迅...

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  • [AFM]原子間力顕微鏡法 製品画像

    [AFM]原子間力顕微鏡法

    ナノスケールの凹凸形状を三次元的に計測

    AFMは、微細な探針で試料表面を走査し、ナノスケールの凹凸形状を三次元的に計測する手法です。 ・金属・半導体・酸化物など、絶縁体から軟質の有機物まで幅広い試料を測定可能 ・接触圧力が弱いタッピングモードを用いることで、試料ダメージを最小限に抑えることが可能...

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  • EMS分析(エミッション顕微鏡法) 製品画像

    EMS分析(エミッション顕微鏡法)

    故障箇所を迅速に特定

    EMSは、半導体デバイスの異常動作に伴い発生する微弱な発光を検出することで、故障箇所を迅速に特定できる手法です。EMMS、PEM、EMIとも呼ばれます。 ・測定波長領域(可視域から近赤外域)に対して透明な材...

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  • 『TEMの基礎』『TEMの応用と事例』※希望者全員にプレゼント 製品画像

    『TEMの基礎』『TEMの応用と事例』※希望者全員にプレゼント

    高分子や半導体など、幅広い分野の研究開発に活躍するTEM(透過電子顕微…

    TEM(透過電子顕微鏡法)は、薄片化した試料に電子を照射し、 試料を透過した電子や散乱した電子を結像し、高倍率で観察する手法です。 MSTでは、TEMの特徴や試料作製方法など基礎知識を掲載した『TEMの基礎』と 代表的な分析事例や他手法との複合解析例などを掲載した『TEMの応用と事例』を進呈中! 写真や図を用いてわかりやすく紹介した資料です。 【掲載内容(一部)】 <TEM...

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  • 【分析事例】GaN基板の表面形状分析 製品画像

    【分析事例】GaN基板の表面形状分析

    AFMによるステップ-テラス構造の可視化

    ワイドギャップ半導体である窒化ガリウム(GaN)は、パワーデバイスや通信・光デバイスなどの幅広い分野で用いられています。デバイスを作製するうえで、ウエハ表面の形状と粗さはデバイス性能に大きく影響します。GaNウエハを...

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  • 【分析事例】酸化・窒化薄膜のバンドギャップ評価 製品画像

    【分析事例】酸化・窒化薄膜のバンドギャップ評価

    XAFSとXPSの複合解析によって高精度なバンドギャップ評価が可能

    本手法は特に各種酸化膜・窒化膜の評価に対して有効です。 本資料では窒化シリコン(SiN)膜のバンドギャップ評価事例をご紹介します。 測定法:XAFS・XPS 製品分野:太陽電池・照明・酸化物半導体・パワーデバイス 分析目的:電子状態評価 詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。...

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  • 【事例】GCIBを用いたSiO2中アルカリ金属の深さ方向濃度分布 製品画像

    【事例】GCIBを用いたSiO2中アルカリ金属の深さ方向濃度分布

    SiO2膜の不純物の評価

    アルカリ金属であるLi,Na,Kは半導体における各種故障原因の要の元素です。これらは測定時に膜中を移動してしまう可動イオンと言われており、正確な分布を得ることが困難とされてきました。 今回、スパッタイオン源にGCIB(Arクラスター)...

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  • 【分析事例】LDI-MSによるフッ素系ポリマーの構造解析 製品画像

    【分析事例】LDI-MSによるフッ素系ポリマーの構造解析

    フッ素系グリース、フッ素系潤滑剤、フッ素系オイル等の構造解析

    フッ素系の高分子材料は化学的安定かつ様々な特性をもち、産業機械や半導体、エレクトロニクス分野で幅広く使用されています。LDI-MS(レーザー脱離イオン化質量分析法)は分子量数千程度のフッ素系ポリマーを分子のままイオン化できる分析手法であり、フッ素系ポリマーの繰り返し...

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  • 【分析事例】SiC基板表面および内部の不純物濃度測定 製品画像

    【分析事例】SiC基板表面および内部の不純物濃度測定

    ICP-MS, GDMSにより基板表面と内部とを切り分けて分析

    半導体材料に含まれる不純物は、リーク電流の発生やデバイスの早期故障等、製品の品質に影響する場合があります。従って、材料に含まれる不純物量を把握することは、製品の品質向上において重要です。本資料では、パワーデバイス材料として注目されているSiC基板について、基板表面に付着した不純物をICP-MS、基板中の不純物をGDMSで分析した事例をご紹介します。 測定法:ICP-MS・GDMS 製品分野:パワーデ...

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  • 【分析事例】SiGe中不純物の高精度定量評価 製品画像

    【分析事例】SiGe中不純物の高精度定量評価

    SIMS:二次イオン質量分析法

    SIMSによる半導体素材SiGeの不純物の定量・組成評価では、分析時に下記を考慮する必要があります。 ●Ge濃度に応じた適切な定量補正を行わないと不純物定量値は本来の値に比べて50%以上異なることがある。定量評...

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