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【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)
PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-
書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか! 新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会
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PRわずか4.76mmの断面寸法を実現。省スペース・軽量化により、設計自由…
ケイドンの『超薄型ボールベアリング』は断面寸法が小さく、省スペース化と軽量化を実現しており、設計の自由度が向上します。 内径は25.4~1016mm、断面寸法は4.76~25.4mmまで幅広くラインアップ。 4点接触型、アンギュラコンタクト型、深溝型があり、特殊環境での使用も可能です。 【特長】 ■専門メーカーとして量産体制を確立しており、短納期にも対応 ■ボールベアリングのため...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社木村洋行
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《加熱・冷却観察装置 MHO-300-2 》小型・置くだけ・簡単
《加熱・冷却観察装置 MHO-300-2 》お持ちの顕微鏡・マイクロス…
ト、真空用ロータリーポンプ ・水循環装置(ステージ外壁保温・冷却用) ・温度プログラマブルソフトウエア、温度表示動画記録ソフト 【対象材料】 顕微鏡下での熱学的現象を可視化できる化学・高分子・半導体など材料研究、また生物学・医学の基礎的研究分野でもご利用いただけます。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社米倉製作所
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赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合…
℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。 各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。 クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。 樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。 試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社米倉製作所
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MAZAK INTEGREX i-200H 新規導入
【複合加工・自動化に好適】
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ハーメチックコネクタ
高真空で使用できる ハーメチックコネクタです!
有限会社テクサム -
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水素フリーDLC(ta-C)『TETRAスリック』
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日本コーティングセンター(JCC)株式会社 -
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電装産業株式会社 -
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株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,) -
FPD・半導体用 ガラス基板搬送ケース※1個から生産可能
G1~G6hの様々なサイズにも対応。精密・高品質なガラス搬送ケ…
株式会社ディー・アール・エス(DRS) -
アンモニアを含む排水処理に!『アンモニア除去・回収装置』
【多数導入実績あり】必要に応じた濃度のアンモニアの回収が可能な…
第一エンジニアリング株式会社