• 高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置 製品画像

    高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置

    PR【超高圧ジェットでメタル&レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

    【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし! ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム (オプション) 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能! 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

    • IMG_0052.JPG
    • IMG_3085.jpg
    • IMG_3096.jpg
    • IMG_3097.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 半導体製造装置用サファイアカスタム品のご提案【技術データ進呈】 製品画像

    半導体製造装置用サファイアカスタム品のご提案【技術データ進呈】

    PRどんな複雑なサファイア加工依頼にも挑戦します。1個からでもお気軽にお問…

    創業77年の老舗サファイア製造メーカーです。 サファイアの大型結晶を自社で育成しているため、1mm以下の微細な製品から 写真のような300mm程度の大型窓の製作も可能です。 設計段階からお客様のご要求に寄り添い、品質的/コスト的に最適なカスタム製品を共に作り上げていくことが得意です。 1個からのお問い合わせも歓迎しておりますので、ご遠慮なくお問い合わせください。 切断、研削、研磨といった基本的...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社信光社

  • FIB光イオン化ナノ質量イメージング装置『FILMER』 製品画像

    FIB光イオン化ナノ質量イメージング装置『FILMER』

    環境微粒子分析などに!光空間分解能を達成したレーザーSNMS採用の装置

    トヤマの『FILMER』は、高分子材料や有機・無機複合材料の研究・開発の 現場ニーズに答える、飛行時間型二次イオン質量分析装置です。 マッピング面分解能50nmの高空間分解能を達成し、 質量分解能(m/Δm): 5,000@m/z=56を両立しました。 レーザーSNMS採用で、信号イオン発生効率の向上を実現し、 有機物高感度分析を行うことが出来ます。 【特長】 ■高空間分...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トヤマ

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
15件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 4校_0513_tsubakimoto_300_300_226979.jpg
  • bnr_2403_300x300m_ur-dg2_dz_ja_33566.png

PR