• [環境への取り組み]発泡スチロールの再生原料 製品画像

    [環境への取り組み]発泡スチロールの再生原料

    PR発泡スチロールを再生利用!環境に配慮したものづくりのお手伝いが可能です…

    当社はプラスチック製品の製造・販売企業としての責任を果たすため、 素材の循環と持続可能エネルギーの利用拡大に取り組んでおります。 その一環として、製造過程で発生する発泡スチロールを再びPSペレットへ再生する仕組みを整えました。 再生されたPSペレットの一部は再び発泡スチロールの原料としても生まれ変わり、 発泡スチロール製品として再製品化も可能になりました。 環境に配慮したものづくりの一助として、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社石山

  • 難しい設備洗浄で採用実績多数!工数短縮に繋がる設備用水系洗浄剤 製品画像

    難しい設備洗浄で採用実績多数!工数短縮に繋がる設備用水系洗浄剤

    PR『洗浄不足改善』『洗浄時間短縮』『コストを削減』『負担が大きい洗浄作業…

    □汚れによって洗浄剤をシリーズ化。効率的な洗浄で洗浄工数を短縮。すすぎ性にも優れた設備用水系洗浄剤です。 □こんな方におススメ ◎洗浄不足による製品への異物混入を防ぎたい ◎洗浄時間・コストを削減したい ◎入槽作業など現場への負担が大きい作業をより短時間で安全に行いたい 高い浸透力により、釜などの製造設備に付着した汚れを効率よく除去可能。 すすぎ性が優れているため、洗浄工程の簡略化に貢献します...

    メーカー・取り扱い企業: 共栄社化学株式会社 本社

  • 【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置 製品画像

    【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

    ◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWN…

    1100℃ ・Kタイプ熱電対 ◆Model. nanoCVD-8N(CNT用)◆ ・CNT生成用,常圧プロセス制御 他同上 ※ H2, Ar, N2, Ethanol, CH4等の原料、及び原料供給設備は付属しません。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 静止空気より優れた断熱性能!高性能断熱材のメリットを解説 製品画像

    静止空気より優れた断熱性能!高性能断熱材のメリットを解説

    なぜ断熱材『シルサーム』を導入するのか?そのメリットを解説します。

    当社では、静止空気以上の断熱性能を誇る、『シルサーム断熱材』を原料から最終製品まで、一貫して製造しております。 『シルサーム断熱材』の特徴 ■ ヒュームドシリカを原料とした断熱材 ■ ナノ粒子による微細な多孔質構造体 ■ 最高1600℃用途で使用可能 ...

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    メーカー・取り扱い企業: シルサーム・ジャパン株式会社

  • CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』 製品画像

    CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』

    フロー管理システムが搭載!粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…

    『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。 シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、 回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも 高温でのCVD/...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • 【超耐熱】エンジニアリングプラスチック SCM8000のご紹介 製品画像

    【超耐熱】エンジニアリングプラスチック SCM8000のご紹介

    超耐熱・低吸水率・優れた摺動特性を誇るエンジニアリングプラスチックです…

    【SCM8000】は高耐熱性ポリイミドを原料に圧縮成形した超耐熱樹脂です。 高温下、腐食環境、何度も摺動する摩耗懸念の有る箇所に対して、優れた性能を発揮します。 エンジニアリングプラスチックの中では、加工性が良い材料です。 穴あ...

    メーカー・取り扱い企業: ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課

  • ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】 製品画像

    ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

    Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

    【装置構成例】 ・基板:Cu, Ni, 他..(フィルム, フォイル) ・原料:CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス:H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ:Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 液体ソースプラズマCVD装置 製品画像

    液体ソースプラズマCVD装置

    小型でスペース効率の優れた装置!基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…

    当製品は、TEOSをはじめ、液体原料ソースを対象とした シリンダーキャビネット付きプラズマCVD装置です。 液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、 内部異常放電防止対策や安定プラズマ生成目的...

    メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社

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