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FOOMA JAPANに実機出展!世界で選ばれ続ける真空ポンプ
PR従来の油回転ポンプと比較し最大30%の省エネ(当社比)!まずは評価機で…
【製品説明】 世界で300万台以上のR5ロータリーベーン真空ポンプが使用されています。ブッシュのロータリーベーン技術が長きにわたり業界のスタンダードとして確固たる地位を築いてきた理由の一つが、その優れた堅牢性と信頼性です。R5 RDシリーズはその優れた特質を受け継いだ最新モデルです。 【特長】 ■ 高いエネルギー効率 従来のロータリーベーン真空ポンプと比較した場合、最大で30%の省エネを実現(...
メーカー・取り扱い企業: 日本ブッシュ株式会社
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PR高圧式リングブロアーと油式回転真空ポンプの総合カタログ!
高圧式リングブロアーは吸い込む空気は螺旋軌道を描きながら圧縮室を通り、 インぺラの遠心推力により繰り返し加速される為、排気スロットで高圧が得られるようになります。 油式回転真空ポンプは精密ポンプと高い軌道トルクの直結駆動誘導電動機から成っており、 低コストと高性能により、中程度の真空を必要とする食品加工、印刷など様々な分野で使われています。 【主なラインナップ】 ■高圧式リングブロアー ・ケー...
メーカー・取り扱い企業: ユニオン産業株式会社
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4(又は3inch x 3, 4inch x 2) ・プラズマエッチング:メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュア...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…
抵抗加熱蒸着源(金属蒸着)、有機蒸着源(有機材料)、マグネトロンスパッタ(金属・絶縁材)、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1(*DCスパッタのみ) ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…
■Max2000℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ■3種類のヒーター材質: ・高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch ・TiC3(チタン・カーバイド)コーティング:Φ4〜Φ8inch ■使用雰囲気: ・真空・不活性ガス(グラファイト) ・還元雰囲気(TiC3コーティング) ■試料台サイズφ4inch〜φ8inc...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…
◉Max2000℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ◉3種類のヒーター材質: ・高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch ・TiC3(チタン・カーバイド)コーティング:Φ4〜Φ8inch ◉使用雰囲気: ・真空・不活性ガス(グラファイト) ・還元雰囲気(TiC3コーティング) ◉試料台サイズφ4inch〜φ8inc...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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