• 表面処理・バレルメッキ装置『スーパーバレル』※導入事例進呈 製品画像

    表面処理・バレルメッキ装置『スーパーバレル』※導入事例進呈

    PR微細精密部品のバレルメッキに。豊富な製品仕様で蓋への挟まり不良など様々…

    『スーパーバレル』は、精密部品(電気・半導体部品)にも 均一かつ密着性に優れた高品質なメッキ処理が行えるバレルメッキ装置です。 独自の蓋開閉機構により極小・極薄部品でも蓋への挟まりを起こしにくく、 内面への付着・引っかかりも防止。高いメッキ効率を維持しつつ、不良率の改善に貢献します。 超小型実験用、手動式モーター搭載型、自動機型などをラインアップ。 標準サイズでの提供はもちろん、...

    • s1.jpg
    • s2.jpg
    • s3.jpg
    • s4.jpg
    • s5.png
    • s6.png
    • s7.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社共和機器製作所

  • 積層エレメント型スタティックミキサー『Nim』『Rim』 製品画像

    積層エレメント型スタティックミキサー『Nim』『Rim』

    PR配管内に設置するだけで流体を効率よく混合。配管へのねじ込み、フランジ間…

    当社は、配管内に設置するだけで高い混合能力を発揮する、 2種類の積層エレメント型スタティックミキサーを提供しています。 『Nim(ニップルミキサー)』は、配管にねじ込むだけで設置でき、 『Rim(リングミキサー)』は、フランジ部分での固定により、さらにスペースを抑えた設置が可能。 混合エレメント構造体による分流と合流の繰り返しで、 効率よく気液混合や二液混合、分散、均一化が行えま...

    • 01.jpg
    • 02.jpg
    • 03.jpg
    • 04.jpg
    • 05.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ニクニ 本社、本社営業部、大阪営業所、名古屋営業所、福岡営業所

  • 化合物半導体用電極膜アニール装置(可変雰囲気熱処理装置) 製品画像

    化合物半導体用電極膜アニール装置(可変雰囲気熱処理装置)

    化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…

    Siプロセスに実績豊富なアニール装置を化合物半導体プロセス用にカスタマイズ。 GaAs用のホットプレートタイプに比べ高温(900~1000℃)まで対応。 窒化膜半導体の電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニールを制御。 生産量・プロセスにあわせて最適な装置構成を提案可能な実績豊富なウェハプロセス用熱処理装置。 ...横型石英管...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 量産対応バッチタイプスパッタリング装置 (STH10311型) 製品画像

    量産対応バッチタイプスパッタリング装置 (STH10311型)

    φ410基板×4枚の自公転基板台を4枚備えたバッチ型のスパッタリング装…

    複数の自公転基板台の採用により、量産用としての処理量と優れた膜厚均一異性を両立したバッチタイプスパッタリング装置です。 サイドスパッタ方式により1mを超えるチャンバ系でありながら、基板やターゲットの着脱作業、真空層内のメンテナンスの簡易性を実現しました。 量産用途に最適なデータロギングシステムや装置制御や管理を容易にする制御インターフェースソフトなど量産用装置に必須な細かな配慮が組み込まれてい...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ポリイミドキュア装置(300mmウェハ対応 クリーンベーク装置) 製品画像

    ポリイミドキュア装置(300mmウェハ対応 クリーンベーク装置)

    300mmウェハ対応ポリイミドキュア、ベーキング、低温アニール、多層基…

    真空置換後の低酸素雰囲気(N2)中で高均一性熱風加熱。300mm ウェハをカセット単位で加熱処理。システムLSIポリイミドキュア、フレキシブルプリント基板キュア・アニールに対応。300mmウェハカセット単位のキュアリングで高品質化と量産化を両立 ...低酸素雰囲気中で熱風加熱。温度均一性とクリーンネスを両立。先端デバイスの量産ラインで採用実績豊富な高信頼性装置。 半導体用ポリイミドキュアだけ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中) 製品画像

    水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中)

    大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…

    水素の還元力を最大限に活用し従来に無い薄膜・基板表面の高品位化を実現 デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理(べーく・アニール)に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜の抵抗値・応力制御に研磨後のウェハの終端処理に、特殊用途の熱処理に多くの実績を元に初期段階からテストを含めて対応...6インチウェハ対応の石英管の横型...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ウェハプロセス用真空蒸着装置 製品画像

    ウェハプロセス用真空蒸着装置

    膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現!高品質の電極膜を安定して形…

    『ウェハプロセス用真空蒸着装置』は、6インチまでのウェハへの 電極膜形成に対応したバッチタイプ蒸着装置です。 ディスクリートIC、化合物IC、MEMSデバイスの量産用途に 豊富な実績を持っています。膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を 実現するオイルフリー排気系により高品質の電極膜を安定して形成が可能。 量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。 【特長】 ■信頼性...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 簡易実験用スパッタリング装置 製品画像

    簡易実験用スパッタリング装置

    手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種 簡易ロードロックタイプで化合…

    当製品は、基礎研究から先端プロセスの開発までカバーする シンプルでコストパフォーマンスの高いスパッタリング装置です。 全手動化し低コスト化したバッチタイプと手動搬送機構を装備した 簡易ロードロックタイプの2機種をラインアップ。両機種とも上位機種の プロセス性能を維持した上で、大きなコスト低減を実現しています。 サンプルテスト・仕様対応・納入後のフォローまで一貫して丁寧な対応を ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置) 製品画像

    横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置)

    小径ウェハ(4インチ)や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…

    化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のSiウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温(1000℃)均一加熱 ...横型石英管タイプのホットウォール型の専用アニール装置。 ターボ分子ポンプとドライ真空ポンプによるクリーンバキューム&大気圧水素雰囲気による高純度還元熱処理を実現。 石英管急冷機構を標...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

1〜7 件 / 全 7 件
表示件数
60件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 3校_0917_jilc_300_300_2000002.jpg
  • 2校_0902_duskin_300_300_2109208.jpg

PR