速乾で仕上りキレイな洗浄剤『アサヒクリンＡＥ‐３０００シリーズ』

PRモノづくりで重要な洗浄工程でお困りの方に朗報！乾燥時間の短縮、乾燥温度…

オゾン破壊係数0！不燃性で乾燥性のよいフッ素系の溶剤です。 ★次の問題は、AE-3000 / AE-3100Eで解決！ ・乾燥や冷却に時間がかかる ・乾燥シミが残って歩留まりが下がる ・商品が錆びる ・廃液が多い ・可燃物の使用量が多い ・水シミが残って美観が損なわれる ・効率よく水分除去できる乾燥工程がほしい 【特　長】 ・乾燥性：適度な沸点で蒸発潜熱が小さく乾燥性に...

メーカー・取り扱い企業： ＡＧＣ株式会社 化学品カンパニー

半導体・センサパッケージング＆カメラモジュールの開発・製造

PR半導体・センサパッケージングや半導体モジュールの開発・試作、小中規模量…

当社では、半導体ベアチップ実装、マイクロ接合技術による小型実装モジュールの開発から、 小中規模の量産までワンストップでサポートします。 カメラの受託製造も承っています。 こんなことでお困りの方、お気軽にお問い合わせください！ 【モジュール開発・実装技術開発サービス】 ■実装基板の小型化をしたいが専門化がいない。 ■新たに実装工法を開発したい。 【試作サービス】 ■原理試作・エンジニアリングサ...

メーカー・取り扱い企業： マイクロモジュールテクノロジー株式会社

洗浄と乾燥の装置 「レンズ・ガラス基板の水洗浄と乾燥システム」

洗浄後に水染み等を確実に排除し、短時間の仕上げを実行します。

ガラス基板に付着してHFE水切り乾燥装置に持ち込まれる「水」の大半は比重分離により装置外へ取り出されます。 HFE溶剤に過飽和に溶け込んだ水分は「水分除去装置」により、装置外へ確実に取り除きます。 付着し...

メーカー・取り扱い企業： 大川興産株式会社

光学レンズ・ガラス基板の水洗浄と溶剤による乾燥システム

HFE/HFC溶剤による乾燥システムは素早く水分を除去し、水染みの発生…

光学レンズ等はアルカリ・酸・中性洗剤により洗浄され、その後、純水リンス工程を経て、HFE/HFC溶剤による乾燥システムに送られて来ます。乾燥システムに大量に持込まれる水は溶剤との比重差で簡単に装置外へと取り出す事が出来ます。洗浄後の水染み発生の原因は乾燥用溶剤中に徐々に溶け込んでいく微量の水分です。この水分を確実に低濃度に保つ事が水染み「０」に繋がるのです。弊社の開発した「水分除去装置（オプション...

メーカー・取り扱い企業： 大川興産株式会社

洗浄機「有機ELマスク洗浄装置」

環境にやさしい低排出、低ランニングコストを実現した洗浄機

トレスを無くすために常温で洗い上げることでこれを実現 ○蒸留機の搭載により、洗浄液は新液として蘇り、汚れ成分は 　凝縮して少量の廃液として排出するため、従来の全量液交換は不要 ○有機ELガラス基板の洗浄機も開発 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 大川興産株式会社

洗浄装置 「有機ELマスク洗浄装置」

環境にやさしい低排出、低ランニングコストを実現

トレスを無くすために常温で洗い上げることでこれを実現 ○蒸留機の搭載により、洗浄液は新液として蘇り、汚れ成分は 　凝縮して少量の廃液として排出するため、従来の全量液交換は不要 ○有機ELガラス基板の洗浄装置も開発 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 大川興産株式会社