【自動化対応】ルーター式基板分割機『SAM-CT34XJ』

PR〈国内製〉基板の供給・分割・排出を自動化（最大400×300mmに対応…

当社のルーター式基板分割機に、高速・高精度で切断でき、 自動化（マニュアルでの操作も可能）にも対応した『SAM-CT34XJ』が新製品としてラインアップに加わります。 基板の供給・切断・排出を自動で行えるのはもちろん、 カメラで基板を表示しながら簡単にティーチングが可能。 画像処理機能による、切断位置の自動補正にも対応しています。 【特長】 ■ルータービットの高さを自動で切り替...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サヤカ

『熱硬化型焼結銅ペースト』半導体パッケージの高集積化に貢献

PR低抵抗・高放熱を実現する銅ペースト。200℃以上の加熱で焼結し、大気硬…

当社の『熱硬化型焼結銅ペースト』は、半導体パッケージに対し 低抵抗・高放熱といった優れた性能を付与できる樹脂含有型ペーストです。 さらに200℃以上の加熱で焼結するほか、大気硬化も可能です。 半導体パッケージの高集積化などへの対応に必要な特性を備えています。 【特徴】 ■銀ペーストと同等の電気的特性を保持しながら、イオンマイグレーションを低減 ■独自の特殊処方で硬化中の酸化を防ぎ、大気硬化によ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

洗浄と乾燥の装置 「レンズ・ガラス基板の水洗浄と乾燥システム」

洗浄後に水染み等を確実に排除し、短時間の仕上げを実行します。

ガラス基板に付着してHFE水切り乾燥装置に持ち込まれる「水」の大半は比重分離により装置外へ取り出されます。 HFE溶剤に過飽和に溶け込んだ水分は「水分除去装置」により、装置外へ確実に取り除きます。 付着し...

メーカー・取り扱い企業： 大川興産株式会社

光学レンズ・ガラス基板の水洗浄と溶剤による乾燥システム

HFE/HFC溶剤による乾燥システムは素早く水分を除去し、水染みの発生…

光学レンズ等はアルカリ・酸・中性洗剤により洗浄され、その後、純水リンス工程を経て、HFE/HFC溶剤による乾燥システムに送られて来ます。乾燥システムに大量に持込まれる水は溶剤との比重差で簡単に装置外へと取り出す事が出来ます。洗浄後の水染み発生の原因は乾燥用溶剤中に徐々に溶け込んでいく微量の水分です。この水分を確実に低濃度に保つ事が水染み「０」に繋がるのです。弊社の開発した「水分除去装置（オプション...

メーカー・取り扱い企業： 大川興産株式会社

洗浄機「有機ELマスク洗浄装置」

環境にやさしい低排出、低ランニングコストを実現した洗浄機

トレスを無くすために常温で洗い上げることでこれを実現 ○蒸留機の搭載により、洗浄液は新液として蘇り、汚れ成分は 　凝縮して少量の廃液として排出するため、従来の全量液交換は不要 ○有機ELガラス基板の洗浄機も開発 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 大川興産株式会社

洗浄装置 「有機ELマスク洗浄装置」

環境にやさしい低排出、低ランニングコストを実現

トレスを無くすために常温で洗い上げることでこれを実現 ○蒸留機の搭載により、洗浄液は新液として蘇り、汚れ成分は 　凝縮して少量の廃液として排出するため、従来の全量液交換は不要 ○有機ELガラス基板の洗浄装置も開発 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 大川興産株式会社