産廃費大幅削減、CO2白煙無し、磁力熱分解処理装置SWP-120

PR燃料不要電気のみ、月額約10万円、有害ガス排出無し、産廃費大幅削減、プ…

石油化学製品、プラスチック、樹脂製品、ウレタン、発泡スチロール、フィルム、シート、固化した塗装ゴミ、ゴム製品、プリント基板、電線、木材、梱包材、紙、売れ残った衣服、軍手、ウェス等ごみを燻焼処理しわずかな灰にしランニングコストが非常に低い、脱炭素社会に適した磁力有機廃棄物燻焼炭化炉装置SWP-120。従来のSWP-120に有った、排気ガスを水で洗浄するスクラバーが無くなり、水が必要なくなったため、屋...

メーカー・取り扱い企業： カッティングエッジ株式会社

【新商品・新価格】総合カタログリニューアル

PR機能性とコストを両立した電子部品や機構部品など新着アイテム満載！最新カ…

★新総合カタログの特徴★ ●メカニカル＆エレクトロニクスパーツ 全11万アイテムのボリュームで、ますます充実した品揃えになりました。 ●フルカラー製品写真で見やすいレイアウト 製品は巻頭の目次/製品一覧から探すのが簡単 ●製品単価込みのカタログ 金額が一目で分かるので、商品を金額からお選びいただけます。 ●材料資料も充実 樹脂の耐薬品性一覧表など、製品の特性を把握するのに役立つ情報が満載 お...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社廣杉計器

大型プラズマエッチング装置

ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイ…

実績豊富なバッチタイププラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ」をベースとし最大Φ６００ｍｍもしくは５００ｍｍ□までステージを拡大。 大型ステージでファインピッチのエッチング・各種有機物のアッシング・表面改質・クリーニングなど幅広いプロセスに対応 「従来機種ＥＸＡＭ」同様にウェハ・ガラス・セラミック基板のエッチングを行なうと共に大型実装基板・カット済みのフィルム基板のエッチング・クリーニング・表面処理...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

大気圧プラズマ装置　

大気圧Plasma装置の開発・製造・販売累計1200台以上の実績（20…

株式会社イー・スクエアは、1999年08月 IC製造等で排出されるPFC（パーフロロカーボン）を除去するプラズマ除去の応用で地球環境への社会貢献を目的として設立されました。 2001年10月、大気圧プラズマ装置を利用した表面改質処理装置の開発に着手。 大気圧プラズマ装置によるレジストの剥離実験が、LCD製造工程に多用される表面改質装置へと繋がり、2002年08月 表面処理装置が完成、さらに、コーテ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置による5G向けプリン基板、FCCL向け

伝送ロスを低減するダイレクト接着技術・無電解メッキ前処理に！

大気圧プラズマ装置を利用した５G・６G向けプリント基板やFCCL製造プロセスに寄与します。 弊社の『Precise』はプラズマ発生部を処理部と分離されているため（ダウンストリーム型）、 処理方面にダメージを与えずに、分子結合を主体に表面に官能基・水酸基を付与することで、 液晶ポリマー（LCP）やフッ素樹脂へ、滑らかな表面のまま、ダイレクトに接着が可能です。 弊社プラズマ処理における接着・接合は分...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

PlasmaMAX Hollow Cathode プラズマCVD

最高品質を保ちつつ、基板幅と成膜速度を最大化することで、大量生産プロセ…

この技術により、バリア成膜品、光学多層膜製品、機能性繊維、ディスプレーの製造や、一連の関連するカスタムアプリケーションを最適化することができます。 PlasmaMAX ホローカソード は、形状をカスタマイズすることができるため、水平型インライン式の真空成膜装置、垂直型インライン式真空成膜装置、ロールツーロールのウェブコーティングプロセスにも容易に組み込むことが可能です。簡単にカスタマイズできるデ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

真空装置　平行平板評価用プラズマ処理装置　　

半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…

チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、ＡＰＣを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することができます。 【特長】 ○RIEプラズマエッチング装置 ○6インチまでのシリコンウエハ、小型角基板の異方性エッチングが可能 ○...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

ＡｌＮテンプレート作成装置（配向性ＡｌＮ膜用スパッタリング装置）

ＵＶ－ＬＥＤ用ＡｌＮテンプレートをスパッタで。高い結晶性とＣ軸配向性を…

ＵＶ－ＬＥＤの製造の低コスト化に必要なサファイア基板へのＡｌＮテンプレートをスパッタで作成。１００arc／ｓｅｃ以下のＣ軸配向性を持つＡｌＮ膜を低温（７００℃以下）でスパッタリングで形成。 シンプルかつ安定したプロセスとハイスループット性でＵＶ－ＬＥＤの低コスト化に貢献。 サンプルテストに対応中、高周波デバイスへの展開も開発中。 ...標準型ロードロックタイプスパッタリング装置より成膜系...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店