切削レスで板鍛造加工のネットシェイプ化を実現！ 技術資料進呈

PR増減肉、段差形状＆コーナー角出し、テーパ形状の成形を切削レスで加工。従…

「生産性を上げたい」「コストを下げたい」「新工法を知りたい」 こんなお悩みはございませんか？ 樋口製作所は圧倒的な金属プレスの技術力で、 軽量化やコストカットなどを実現してきました。 下記からダウンロードいただける資料では、弊社が実現した 板鍛造加工のネットシェイプ化についておまとめしております。 ご興味のある方はお気軽にダウンロード下さい。 【特長】 ■大幅な生産性の向上が見込める（VA/...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社樋口製作所 本社工場

装置に潜む課題を直動ガイドで解決！『ミリオンガイドシリーズ』

PR装置で発生する様々な課題と解決方法を掲載した採用事例集を無料進呈中！

直動ガイドを使用する装置には、様々な課題が潜んでいます。 【例えばこんな課題が潜んでいます】 ●剛性不足 ●ガイドの複数本使いによるスペースの不足 ●もっと精度の高い位置決め これらの課題をアイセルの『ミリオンガイドシリーズ』なら解決できます！ 【ミリオンガイドシリーズの特徴】 1.高剛性 “点接触から線接触へ”高精度な幅広ローラを採用しています。 2.高精度 ...

メーカー・取り扱い企業： アイセルグループ株式会社

高温炉用熱電対(半導体製造装置向け)「高精度な温度測定機能」

高精度な温度測定機能により、熱処理工程の温度制御に好適！

制御・温度測定用センサとしてご使用頂いております。 【特徴】 　・新品の製作はもちろん、お使いの各種熱電対の改鋳も承っております 　・専用のクリーンルームにて生産しています 　・高精度を実現します 　　厳選された素線（高純度材料）を用い、全数温度試験を行い、専用の梱包箱にて出荷いたします 　・高温炉内温度を正確に測定いたします 　・最先端装置に搭載されています 　・校正証明書、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド(ガスノズル)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現しました。 トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安定したプロセス性能を得ることが可能となりました。 トレー交換を容易に行える自動...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

密閉式チャンバー内で、ウェハを成膜面を下に向け裏面を吸着した状態で加熱させ、プロセスガスを下部より吹き上げながら成膜するFace-down成膜方式の採用により、低パーティクルで安全かつ高品質な成膜を実現しました。特許取得済のウェハ反り矯正機能により、SiCウェハの様な反りの大きなウェハでも確実に吸着でき、優れた膜厚均一性を得ることが可能です。 ウェハ周辺の副反応生成物の付着を低減させた構成にする...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド(ガスノズル)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現しました。 トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安定したプロセス性能を得ることが可能となりました。 トレー交換を容易に行える自動...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

スピンタイプ洗浄装置WULFシリーズ「高精細フォトマスク対応」

機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備！RCA洗浄液に変わる洗浄液・…

換えて洗浄することにより、ワーク上の不純堆積物を高速除去するとともに廃液管理も安全な環境対応ツールです。 RCA洗浄液に変わる洗浄液・洗浄方法の採用 SPM → オゾン水 ・完全室温洗浄の実現(高温プロセス不要) ・マスク上の薬液残留量減少 ・廃液処理の安全化(ISO14000対策) SC-1 → アンモニア添加水素水 ・MoSiハーフトーンマスクのエッチング防止 ※詳...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

成膜有効幅760mmのガスヘッド2基を搭載し、吸着式加熱ステージの採用により、温度制御性±3％以内を実現しました。 4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上で成膜が可能で、膜厚均一性10％以内を確保できます。 ●装置サイズ(mm): 1300mm(W) ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行