フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

超低消費 村田製作所製 BLEモジュール

PR長距離通信、スリープモード時 36nAの超低消費電力ワイヤレスモジュー…

村田製作所製『Type2EG』は、onsemi社RSL15搭載の通信(BLE）モジュールです。 業界リードする超省電力(Sleep modo時36nA）と長距離通信（往来の４倍）を実現。 ARMCortex-33を搭載のため、より高度な処理能力とTrustZoneによる高度なセキュリティ機能を提供いたします。 また、AoAとAoDに対応しているため、位置特定を容易にする機能も提供しております。 ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

小型オゾン分解装置『ASM501』

独自設計による高性能ハニカム触媒を使用し短納期を実現！不燃タイプで安心…

社あすみ技研が取り扱う、小型オゾン分解装置『ASM501』をご紹介します。 紫外線照射装置やエキシマ洗浄装置、プラズマ洗浄装置の使用時に発生する オゾンの分解装置をスタンドアローンで低価格を実現。 高濃度オゾン除去用に開発されたハニカムオゾンフィルターを採用しており、 本装置一台でオゾンを分解でき、排気ダクトへの接続など面倒な作業が不要です。 【特長】 ■分解率を向上させた...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

UVオゾン洗浄表面改質装置『ASM401N』

特殊形状の低圧水銀ランプを採用し高い照度を実現！扉を開けるとランプが消…

【その他の特長】 ■高照度、高均一紫外線照射 ・特殊形状の低圧水銀ランプを採用することで、高い照度を実現 ・照度均一度は±10％を確保 ■正確なデータ取りが可能 ・ランプから試料ステージまでの照射距離を10mm刻みで設定出来、 　好適な照度で実験が行える ■安全な環境を確保 ・紫外線が外部...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

小型オゾン分解装置

紫外線照射装置やエキシマ洗浄装置、プラズマ洗浄装置の使用時に発生するオ…

プのため、劣化が少なく、寿命の長いフィルターです。 ・不燃タイプですので、安心してご使用頂けます。 ・コンパクトで、設置場所に困りません。 ・独自設計による高性能ハニカム触媒を使用し、短納期を実現しました。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研