車両開発向け　受託試験サービス

PR自動車業界で培ったノウハウを活かし、信頼性の高いデータを提供。一貫対応…

AT・CVTメーカー、ジヤトコのグループ企業である当社は、 多様な製品の開発・生産に関わる中で培った技術力と高性能設備による 『車両開発向け　受託試験サービス』を提供しています。 ロボットによる自動運転で再現性を追求したシャシーダイナモ試験や 実走評価などの実車評価のほか、台上試験による性能評価、 各種試験機を用いたコンポーネント実験や物理・化学分析にも対応可能。 一貫してお任...

メーカー・取り扱い企業： ジヤトコエンジニアリング株式会社 本社

【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…

当社は汎用性の高いエッチング装置や、低温低圧条件でも緻密に成膜できる堆積式の成膜装置を取り揃えております。 【ドライエッチング機種（一例）】 Pishowシリーズ： ■シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能 【成膜機種（一例）】 Shale Cシリーズ： ■IC...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

立体物対応実験用プラズマCVD装置

対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定…

当社で取り扱う『立体物対応実験用プラズマCVD装置』をご紹介いたします。 立体物に成膜可能で、対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等。 PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギングが可能です。 当社で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社DINOVAC

真空装置設計・製作からサポートまで短納期でご対応

真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを！

各種真空成膜装置の設計・製作を行っております。装置完成後の現地搬入・立ち上げ、稼働後の保守を含めたトータルでのサービスが可能な体制となっております。各種実験補助設備の設計や真空設計の応用に豊富な経験があり、仕様検討の段階よりお手伝いさせて頂きます。また、研究･開発部門からの引合いも多く、ご要望に沿った提案が出来ますので、お気軽にご相談下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモ・サイエンス

単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置　DCVD-51A

コンパクトで省電力！デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用…

ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため 　デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプショ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプショ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

。 GNUシリーズとして、周波数2.45GHz帯・5.8GH帯・10GHz帯、出力：〜500W、をラインアップいたしました。 各種電池材料の開発・化学合成・反応・低温焼成・乾燥・プラズマ処理等の実験に最適な装置です。 従来の電熱炉等の外部加熱による加熱より、短時間で実験が可能です。（加熱例：金属粉体 20μ 2g を10秒で20℃→700℃） ラジオのチューニングのように発振周波数（5.7...

メーカー・取り扱い企業： 富士電波工機株式会社 第1機器部

プラズマCVD装置

漏洩マイクロ波検出用も付属！試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

『プラズマCVD装置』は、実験用に極端に簡素化して製作されたCVD装置です。 マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで 製作し価格を下げております。 また、プラズマ発生域と試料の距離を変...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ 発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

・Shale Cシリーズ：ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） 低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ・Shaleシリーズ：PE CVD（プラズマCVD） 2周波数のプラズマ源を搭載、SiNx製膜の応力を幅広く制御可能 ・Ganistarシリーズ：IBD（イオンビーム堆積） 低温低圧条件...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能 ・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続，PC...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシタンスマノメータ（バラトロンゲージ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【資料】～マイクロLED向けICPエッチングの加工例～

GaNマイクロLEDメサ加工の結果、GaNマイクロLEDメサ加工中の発…

当資料では、マイクロLED向けのICPエッチングの加工例を ご紹介しています。 実験及び結果として、GaNマイクロLEDメサ加工の結果や GaNマイクロLEDメサ加工中の発光分光データなどを掲載。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容】 ■実験及び結果 ■GaNマイ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対…

・ドライエッチング機種 Pishowシリーズ： シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能； 幅広く温度の工程に対応可能； エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応可能 ・成膜機種 Shale Cシリーズ： ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） 低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える ...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社