• 半導体後工程用治具(治工具) ~マガジン・ダイシングリング・他~ 製品画像

    半導体後工程用治具(治工具) ~マガジン・ダイシングリング・他~

    PR40年で約100社を超える採用実績とノウハウでオーダーメイド提案します…

    当社はUACJグループで「材料調達」から「製品完成」までを担う会社です。 電子部品や半導体製造のダイシングからワイヤーボンディング、モールドまで一連の工程で使用される治工具を様々なお客様へご提供しております。40年に亘る【国内生産】の安定した品質・ワンストップ供給、蓄積してきたノウハウを用いお客様の困りごとに対してご提案させて頂きます。 【採用事例】 ・マガジンのコストダウン(組立タイプのマガジ...

    • ダイシングリング.PNG
    • ダイシングリング収納カセット(マガジン).PNG
    • スタックマガジン(モールドカセット).PNG
    • スティック(多連)マガジン.PNG
    • アルミトレイ(キャリア).PNG

    メーカー・取り扱い企業: UACJグループ 泉メタル株式会社 

  • 【部品加工×不良率低減】不良情報の活用で生産性向上&コスト削減 製品画像

    【部品加工×不良率低減】不良情報の活用で生産性向上&コスト削減

    PR不良の分析とデータ管理も生産管理システムで!

    検査工程での発見では遅い…とお悩みの企業様にご提案です。 【その課題『TECHS-BK』が解決】 ☑ ハンディターミナルを活用し、工程実績登録時に「不良数」や「不良理由」を登録 ☑ 不良分析グラフで、品番(図番)や設備、工程ごとの不良率を出力 ☑ 不良報告書として、「原因・対策・不良の参考資料」などをデータ保存可能 ☑ 過去に不良が生じた品番は、次回の受注時に不良履歴や注意事項を参照可能 ☑ 過...

    • 部品加工×不良率低減2.png
    • 部品加工_サブ?.png
    • 部品加工_サブ?.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノア 岐阜本社 東京本部 大阪支店 九州支店

  • 【資料】5G運用を迎えてーパワーデバイスの進化と課題ー 製品画像

    【資料】5G運用を迎えてーパワーデバイスの進化と課題ー

    デジタル社会は新たな境地へ!5G下に求められるパワー半導体の姿などを掲…

    ス洗浄の課題について解説しております。 注目を浴びる5Gの展望と、未来世界には欠かせない1つである 「パワー半導体」にスポットをあてご紹介。 5G下に求められるパワー半導体の姿や「洗浄工程」の重要性、 洗浄課題に向けた取り組みなどを掲載しております。 是非、ご一読ください。 【掲載内容(一部)】 ■はじめに ■5Gの展望 ■5G下に求められるパワー半導体の姿 ■パワ...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【共同研究】活性剤の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証 製品画像

    【共同研究】活性剤の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証

    リーク電流の発生や絶縁抵抗性の悪化に直接的に起因!洗浄ノウハウをご紹介

    はんだを使用した接合工程において優れた無洗浄技術が確立している 日本市場ではありますが、 様々な課題が生じるケースが増加しており、 年々洗浄の需要は高まっています。 増加し続ける洗浄需要の背景の一つとして、イオン残渣への...

    • 活性剤(イオン成分)の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証2.JPG
    • 活性剤(イオン成分)の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証3.JPG
    • 活性剤(イオン成分)の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証4.JPG
    • 活性剤(イオン成分)の洗浄性 低スタンドオフ部の残留性検証6.JPG

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【資料】洗浄効果の立証はできていますか〜清浄度評価の課題〜 製品画像

    【資料】洗浄効果の立証はできていますか〜清浄度評価の課題〜

    洗浄後評価が問われる時代に!外観検査以外の有効な分析手法などを掲載

    当資料は、フラックス洗浄後の清浄度評価方法について解説しております。 既存の主流評価方法としては、信頼性評価をパスした後、実際の製造工程 ではAOIによる外観検査を行うことで、製品不良の可否を判断しており、 製品検査後において不良が生じてしまう事例が増加している現状があります。 このような事例の発生要因と、外観検査以外の有...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【共同研究】イオン残留量の検証~フラックス種による相違~ 製品画像

    【共同研究】イオン残留量の検証~フラックス種による相違~

    困難さが増しているイオン残留課題について!洗浄ノウハウをご紹介

    ト・通信技術の研究開発がますます 進んでおり、新たな接合技術であるシンターも本格的に量産稼働の動きが 見えてくるなど、パワー半導体デバイスの勢いは衰えません。 今回のテーマであるイオンはドーピング工程やはんだペースト中の 活性剤などとして広く使用されており、電子デバイスにとっては不可欠な 存在となります。 また、最近の研究ではドーピング剤としてナトリウム・カリウムを イオン性物質として使用する...

    • イオン残留量の検証~フラックス種による相違~2.JPG
    • イオン残留量の検証~フラックス種による相違~3.JPG
    • イオン残留量の検証~フラックス種による相違~4.JPG
    • イオン残留量の検証~フラックス種による相違~5.JPG

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【資料】先端電子部品の洗浄技術 メカニズムと残存汚れの評価法 製品画像

    【資料】先端電子部品の洗浄技術 メカニズムと残存汚れの評価法

    コンタミネーション洗浄に着目!先端電子部品の性能を担保しうる「洗浄」の…

    当資料は、先端電子部品の洗浄や洗浄後の分析方法について解説しております。 フラックス洗浄工程を筆頭とする接合後のコンタミネーション洗浄に 着目し、様々な技術の集合体である先端電子部品の性能を担保しうる 「洗浄」の在り方と、今後の展望に関して掲載。 是非、ご一読ください。 【...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

1〜5 件 / 全 5 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • bnr_2407_300x300m_laattachment_dz_ja.png
  • 2校_0902_duskin_300_300_2109208.jpg

PR