• DrM社製ろ過装置『FUNDAWAVE/FUNDALOOP』 製品画像

    DrM社製ろ過装置『FUNDAWAVE/FUNDALOOP』

    PRペプチド医薬品・バイオ医薬品・飲料製造などの精製濃縮プロセスに好適。簡…

    当社では、製薬や飲食料品、電池の陽極製造など様々な分野における UF・MFプロセスの工程改善に貢献するDrM社製ろ過装置を多数取り扱っています。 【特長】 <クロスフローろ過システム『FUNDAWAVE』> ■平膜を振動させてろ過する工業用クロスフローろ過ソリューション ■ろ材表面のケーキ層形成やTMP(膜間差圧)の上昇を抑制し、高濃度・高粘度な濃縮を実現 ■フィードポンプの小型化...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富士フィルター工業 本社

  • VPI成形工程~B型セットから脱型~ 製品画像

    VPI成形工程~B型セットから脱型~

    PR材料ロス、工数、廃棄物などを大幅に削減!新しい成形法のご紹介

    「真空プレス成形」は、材料ロス、工数、廃棄物などを大幅に削減し、 成形サイクルの短縮、寸法安定性の向上、より高品質な外観(又は、より滑らかな積層表面)の形成などを もたらすことが可能なHLU/SPU/L-RTM成形法などに代わる新しい成形法です。 作業者の熟練度に関わらず同じ品質の生産が安定して出来る事だけでなく 昨今、労働安全衛生法第28条第3項改正により、管理措置対象物質となっているスチレン...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社GRPジャパン

  • コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-3200 製品画像

    コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-3200

    単一基板に数100条件の組成分布を形成。有効成膜エリアは1辺25mmの…

    『CMS-3200』は、2元・3元のコンビナトリアル組成傾斜成膜に対応する 3元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置です。 有効エリアは1辺25mmの正三角形。2インチウエハを標準基板とするため、 パターン描画・エッチングなどのライン後工程に投入でき、成膜のみならず 解析までをハイスループット化できます。 【特長】 ■2元・3元のコンビナトリアル組成傾斜成膜に対応 ■有...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社コメット

  • コンビナトリアル技術とは 製品画像

    コンビナトリアル技術とは

    ほぼ理想的な混合物が作成可能!直線性に優れ、試料内の幾何学的な配置と組…

    コンビナトリアル技術では、1つの試料基板の上に、2元あるいは3元の 材料の組成を0%から100%まで変化させた薄膜を形成します。 移動マスクを用いて、くさび状の膜厚傾斜を持つ極薄層を交互に積み重ね、 ユニット層の厚みが0.2nm(2A)ですので、この値は原子間距離に等しく、 ほぼ理想的な混合物が作成可能。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社コメット

  • コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-6420 製品画像

    コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-6420

    1辺25mmトライアングルの有効エリア!単一基板に数百条件分の組成分布…

    『CMS-6420』は、PLD法では実現しにくかった成膜面積の拡大を図るべく 開発された6元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置です。 有効エリアは1辺25mmトライアングル。 4インチウエハを標準基板とするため、パターン描画・エッチングなどの ライン後工程に投入できることから、成膜のみならず解析までを ハイスループット化できます。 【特長】 ■プロセスラインに適合...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社コメット

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