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13件 - メーカー・取り扱い企業
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PR環境対応型
これらのシリーズは、ISO16028、もしくはISO16028準拠で、脱着時の油漏れが無いノンスピルタイプで、環境対応型です。世界共通のISO規格ですので、海外でも使用可能です。特に、APM(M)シリーズは、残圧300barまで脱着が可能で、サイズは3/8(APM9)から1-1/2(APM30)まであり、ネジ形状はBSP、NPTで、流量は60〜600L/min程度(圧損4bar時)で、最高圧力は2...
メーカー・取り扱い企業: TOHTO株式会社 本社
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通常のスクリーン印刷でお困りの方必見!『多様形状印刷転写装置』
PR曲率の大きな凹面等へも印刷が可能!大型の対象物でも対応いたします
「多様形状印刷転写装置」は、リバース転写機構を用いることにより、 これまでのスクリーン印刷では対応が困難だった形状や、曲率半径の 小さな凹面、印刷面に高低差のある形状などにも印刷、転写が可能になる製品です。 ペーストは反転されることなくウェットなまま転写されるため、 パターンの崩れや溶媒の吸収の問題が起きにくく、連続した印刷が 可能になります。 また、一般的なスクリーン印刷以上...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社曽田鐵工
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【受託コーティング加工】AFM・STM用プローブに自社開発の有機ナノ薄…
[真空蒸着法] ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具(凹版など) →転写性向上(離型剤レス) ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】
各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…
本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】
各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…
本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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ナノインプリント用金型の離型性&微細形状への追従性を高めたい方に
ナノインプリント用金型へ「離型性向上、微細形状への追従性を高める」機能…
。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象:ナノインプリント用金型 ■目的:離型性向上、微細形状への追従性を高める 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 純水:110°以上・n-ヘキサデカン:68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 スプレー処理:5~10nm(任意に1nm刻みで...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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防汚処理技術「有機ナノ薄膜処理NANOS」<スキャナ用ガラス>
スキャナ用ガラスへ「汚れ付着防止・メンテナンスの向上」機能を付与!テス…
[真空蒸着法] ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具(凹版など) →転写性向上(離型剤レス) ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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離型剤不要!凹版など転写プロセス用治具の転写性UP可能な表面処理
【表面処理加工】転写プロセス用治具の転写性を向上させる表面処理技術『N…
[真空蒸着法] ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具(凹版など) →転写性向上(離型剤レス) ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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表面処理技術|インクジェットヘッドの滑り性UPで印刷性の向上に!
【受託加工】インクジェットヘッドの滑り性・耐久性で困っていませんか?独…
[真空蒸着法] ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具(凹版など) →転写性向上(離型剤レス) ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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タッチパネルの防汚・耐指紋性に!独自技術のフッ素コーティング加工
【受託加工】タッチパネルへ「汚れ(耐指紋)付着防止」機能を付与!テスト…
[真空蒸着法] ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具(凹版など) →転写性向上(離型剤レス) ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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【受託加工】ガラス・金属等に撥水・撥油などの機能を受託コーティングにて…
[真空蒸着法] ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具(凹版など) →転写性向上(離型剤レス) ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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フッ素コート加工【レジストの付着防止に】<フォトマスク向け>
【受託加工】フォトマスクへ「レジストの付着防止」機能を付与!テスト可能
[真空蒸着法] ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具(凹版など) →転写性向上(離型剤レス) ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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【受託コーティング加工】はんだ印刷用メタルマスの滑り性・防汚性を独自技…
[真空蒸着法] ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具(凹版など) →転写性向上(離型剤レス) ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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薄膜表面処理加工|スタンパ金型の離型性向上&タクトタイムの短縮に
【受託コーティング加工】光学部品用『金型』の離型性をUPできる独自技術…
[真空蒸着法] ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具(凹版など) →転写性向上(離型剤レス) ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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光学部品用『金型』に有機ナノ薄膜表面処理で離型性の向上を実現!
【受託コーティング加工】光学部品用『金型』の離型性をUPできる独自技術…
[真空蒸着法] ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具(凹版など) →転写性向上(離型剤レス) ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い...
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