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フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』
PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…
『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…
『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、 融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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PLUMEシリーズのプラズマソースを搭載可能!PVDやPECVDプロセ…
っております。 ハイブリッドリアクター構成によりPVDやPECVDプロセスに対応。 大気開放せずCNTやグラフェン合成の全てのステップ処理を実現し、 基板表面クリーニング、バッファー層成膜、触媒層を含めた 合成ステップに対応しております。 【特長】 ■MAGNIONシリーズのマグネトロン装置に PLUMEシリーズのプラズマソースを搭載可能 ■ハイブリッドリアクター構成...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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日揚科技は用途に合わせて多様なタイプの真空バルブを供給しています。
ルバルブ、手動式と圧空式、またはベローズツキとベローズナキを選択できます。真空バルブを使用する目的はガスを調節するや流量をコントロールすること。そのため、多くの真空チャンバー、真空システム装置、真空成膜装置に応用しています。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: 日揚科技股份有限公司
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分析装置や各種成膜装置向けに開発した、低価格でありながら基本性能を備え…
気体用マスフローコントローラ MC-10シリーズは、短納期対応により、半導体製造コストの改善に貢献しうる低価格なモデルです。 ソレノイドアクチュエータやラバーシールを採用することで低価格を実現しました。 【特長】 ○ラバーシール採用により低価格での提供を実現 ○流量精度は±1.0%F.S.を保証 ○幅広い流量レンジに対応 ○オプションのバリアブルレンジ機能により、1台で複数の仕様に...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社リンテック 東京営業所
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株式会社シンク・ラボラトリー