- 製品・サービス
4件 - メーカー・取り扱い企業
企業
17件 - カタログ
414件
-
-
PR加工時の工作油の給油や設備メンテナンスの給油・給液に。ディスペンサーよ…
つるした缶から落ちる一滴ではアバウトすぎるけど、ディスペンサーほどの精密さは必要ない... 簡易型ディスペンサー『チビット』は、そんな現場に好適な滴下液体供給装置です。 水・油・薬剤・溶剤に対応しており、たらす・飛ばす・噴霧など様々な用途で使用できます。 タンクから直接吸い上げるので、液体の小分けや加圧タンクが不要。高いコストパフォーマンス発揮します。 加工時の工作油の給油や設備メンテ...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社笠井製作所
-
-
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』
最大成膜温度は800℃!チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…
『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、 「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度:800℃ ■最大4...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
-
-
炉のスライド移動による急冷機構を搭載
グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱/急冷が可能 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能 ...・熱電対センサーを炉内に導入、試料温度を直接モニター可能 ・3系統のマスフローガス流量制御系、正確なガス制御が可能 ・コ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ
-
-
スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
- 表示件数
- 15件
- < 前へ
- 1
- 次へ >
※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。