• アクリル、PC、ABS樹脂の溶解剤『eソルブ21RA-1』 製品画像

    アクリル、PC、ABS樹脂の溶解剤『eソルブ21RA-1』

    PRアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ABS樹脂の接着剤として、実績多数…

    アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂(PC)、ABS樹脂の接着で、塩化メチレンなど、塩素系溶剤の代替品としての採用実績が多くございます。 消防法、有機則、特化則、毒劇法のいずれも非該当と法規制が少なく、安全性にも配慮した新しい臭素系溶解剤(接着剤)です。どうぞお試しください。 【カネコ化学の『eソルブ21RA-1』の主な特長】 (1)アクリル樹脂、PC樹脂、ABS樹脂の接着剤、溶解剤と...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社カネコ化学

  • 【悪臭対策】半永久的に使用可能な自浄再生脱臭するセラミック 製品画像

    【悪臭対策】半永久的に使用可能な自浄再生脱臭するセラミック

    PR半永久的寿命を維持!吸収物質を強力分解し、常に安定した浄化能力を保持・…

    『セラダイナミックス』は、空調ダクトや排ガスダクトに設置するだけで、 悪臭、油ミスト、有機溶剤を強力に吸着、分解、無害化し、悪臭防止法、 PRTR、近隣対策ができる自己再生脱臭セラミックです。 セラミックス自体は消耗することなく「分解反応」を発揮し続け、低濃度から 高濃度まで環境規制値を容易にクリアー。 制菌、除菌、静菌などのHACCP(危害分析重要管理点)にも対応します。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ファインセラ

  • 半導体・電子材料用 高純度溶剤 実績多数【サンプル進呈】 製品画像

    半導体・電子材料用 高純度溶剤 実績多数【サンプル進呈】

    半導体や液晶などの電子材料製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤…

    半導体製造プロセス用洗浄剤、フォトレジスト、反射防止膜などへのご使用ニーズにおいて、脱メタル、金属除去、汚染リスク低減のご要望にお応えする薬液です。 ・金属含有量 500 ppt以下の製造実績多数有り ・品目多数、当社製品のほかご指定の化学構造もご相談ください ・受託蒸留も承ります ・品目、金属規格値、純度等ご相談下さい ・国内生産、BCP、リファイン等ご相談下さい ※カタログ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本乳化剤株式会社

  • 半導体、液晶の製造プロセス薬剤『グリコールエーテル・アミン』 製品画像

    半導体、液晶の製造プロセス薬剤『グリコールエーテル・アミン』

    【サンプル進呈】半導体、液晶などの電子材料製造プロセス薬剤のメタルフリ…

    ■グリコールエーテル 低金属管理された高品質グリコールエーテルは、半導体や液晶などの製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤、洗浄剤、エッチング剤などの溶剤として広く利用されています。当社は各金属を数ppbレベルに管理した高品質なグリコールエーテルを豊富に取り揃えており、構造や沸点を広範囲で選択可能です。また、原料調達、合成、蒸留を一貫して行いトレーサビリティの体制を整えることで電子材料業界...

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    メーカー・取り扱い企業: 日本乳化剤株式会社

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