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PRシンプルな構造とすぐれた操作性!微生物によるものづくり
『小型通気式固体培養装置』は、実用規模の固体培養装置と同質の 基質通気式品温制御を採用した製品です。 産業化を想定した通気式固体培養を再現性高く行うことが可能。 また、品温制御が連続基質通風方式のため、産業化を見据えた培養実験を 小規模で再現性高く行うことが出来ます。 原料投入から洗浄までの全ての工程を一人で対応できるシンプルな 構造と優れた操作性は、高い評価を得ています。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジワラテクノアート
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耐圧性・耐薬品性を兼ね備える!カートリッジ フィルターチャンバー
PR上限圧力3.5barの高耐久性を保持!耐薬品性にも優れ、ヒンジ付きカバ…
『カートリッジ フィルターチャンバー』は、電解液やその他の ウェットケミカル処理溶液のろ過用に設計および製造されている製品です。 堅牢で信頼性の高いスマート構造と、圧力損失を最小限に抑えるために 強化された流体力学設計の組み合わせ。 上限圧力3.5bar(オプションで5.5bar)とスチール製の製品と同等の耐圧性と 優れた耐薬品性を保持しています。 これにより、最大級の設置後のアップタイムと...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社河口・サポート 名古屋事務所
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【分析事例】分子動力学計算を用いたアモルファスSiNx膜構造解析
シミュレーションによってアモルファス膜のミクロな構造解析が可能です
Nx(a-SiNx)膜は、N/Si比などの組成変化によって半導体から絶縁体まで物性が大きく変化することから、トランジスタ用ゲート絶縁膜など幅広い用途で用いられています。一方、結晶性のないアモルファス構造の材料に対し、原子レベルのミクロな構造解析を行える実験手法は限られているため、シミュレーションによってさまざまな組成、密度を有したアモルファス構造を作成し、解析を行うことは有効なツールとなります。本...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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製品内基板上DRAMのリバースエンジニアリング
代表的なメモリであるDRAMについて製品レベルからTEM観察による素子微細構造解析まで一貫して分析します。 外観観察からレイヤー解析、Slice&Viewを行うことで構造の全体像を把握し、FIB加工位置をナノレベルで制御し薄片形成後にメモリ部の微細構造をTEM像観察しまし...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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総合カタログ進呈中!従来比4倍でマイコンやフラッシュメモリを高速処理
FAIL結果、チェックサム値、処理数をパソコンのディスプレイ上に わかりやすくカラー表示し、作業性の向上、ミスなく作業できる簡単・快適 な操作性を提供しています。 【モジュール型のアダプタ構造】 従来のDIP変換アダプタ型構造とは異なり、プログラマーに装着する モジュール型のアダプタ構造です。 モジュール型のアダプタ構造により 接触不良がおこりにくい、信頼性の高いアダプタです。 ...
メーカー・取り扱い企業: ウェーブテクノロジー株式会社
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『無料サンプル』を入手可能! 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…
調査レポート「グローバルポリマーメモリーのトップ会社の市場シェアおよびランキング 2024」を1月23日に発行しました。本レポートでは、ポリマーメモリー市場の製品定義、分類、用途、企業、産業チェーン構造に関する情報を提供します。また、ポリマーメモリー市場の開発方針と計画、製造プロセスとコスト構造についても考察します。主要生産地域、主要消費地域、主要メーカーの生産と消費とともに、ポリマーメモリー市場...
メーカー・取り扱い企業: YH Research株式会社
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央区)は調査レポート「グローバルメモリー顆粒のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2023」を12月6日に発行しました。本レポートでは、メモリー顆粒市場の製品定義、分類、用途、企業、産業チェーン構造に関する情報を提供します。また、メモリー顆粒市場の開発方針と計画、製造プロセスとコスト構造についても考察します。主要生産地域、主要消費地域、主要メーカーの生産と消費とともに、メモリー顆粒市場の現在と...
メーカー・取り扱い企業: YH Research株式会社
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4MビットFeRAM『MB85RS4MTY』※資料4点進呈中
最高125℃の高温環境でも最大10兆回のデータ書き換えが可能。車載用、…
【FeRAMについて】 電源がオフになってもデータが消えない不揮発性メモリでありながら、 高書き換え耐性・高速書き込みといった揮発性メモリの長所も備えています。 強誘電体にデータを記憶するという構造により、最大10兆回のデータ書き換え回数を実現。 また、書き込み時間が短いため消費電力が少なく、データ保持用の電流は不要です。 EEPROM、SRAMからの置き換えにより、様々な課題解決が期待できま...
メーカー・取り扱い企業: 富士通セミコンダクターメモリソリューション株式会社 本社
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『無料サンプル』を入手可能! 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…
区)は調査レポート「グローバルIoTメモリのトップ会社の市場シェアおよびランキング 2023」を12月11日に発行しました。本レポートでは、IoTメモリ市場の製品定義、分類、用途、企業、産業チェーン構造に関する情報を提供します。また、IoTメモリ市場の開発方針と計画、製造プロセスとコスト構造についても考察します。主要生産地域、主要消費地域、主要メーカーの生産と消費とともに、IoTメモリ市場の現在と...
メーカー・取り扱い企業: YH Research株式会社
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J1939プロトコルセットはCAN2.0Bに基づいて高速で信頼性の高い…
このホワイトペーパーでは、J1939の基本構造とCANbusが規格内でどのように定義されているかと、車載通信に関連する課題について説明します。 ー続きはダウンロードしてご覧くださいー...
メーカー・取り扱い企業: イノディスク・ジャパン株式会社
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銅核ボールを使用することで、ボールの変形を抑え、3D実装と狭ピッチ実装…
ソルダー(半田)ボールと比較して ◎強度に優れ、半導体パッケージのクリアランスの確保が可能 ◎ボールの変形を抑え、空間を確保し、信頼性の高い部品構造の実現が可能 ◎Cuピラーと同様な狭ピッチ実装が可能 ◎高放熱性とエレクトロマイグレーション対策が可能 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ビオラ
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超低消費電力メモリに関するグローバル市場分析、市場規模、販売量、売上高…
地域/国、製品タイプ、用途別に、2018年から2022年までの過去データ、および2029年までの予測データを調査・分析する。 様々なセグメントを識別することによって、超低消費電力メモリ市場の構造を理解します。 超低消費電力メモリの世界の主要なメーカーに焦点を当て、販売量、価値、市場シェア、市場競争状況、SWOT分析、今後数年間の開発計画を定義、記述、分析します。 個々の成長...
メーカー・取り扱い企業: QY Research株式会社 QY Research
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LPDDR5メモリの世界市場規模、シェア、動向分析の調査レポート202…
地域/国、製品タイプ、用途別に、2018年から2022年までの過去データ、および2029年までの予測データを調査・分析する。 様々なセグメントを識別することによって、LPDDR5メモリ市場の構造を理解します。 LPDDR5メモリの世界の主要なメーカーに焦点を当て、販売量、価値、市場シェア、市場競争状況、SWOT分析、今後数年間の開発計画を定義、記述、分析します。 個々の成長...
メーカー・取り扱い企業: QY Research株式会社 QY Research
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強誘電体メモリの世界市場規模、シェア、動向分析の調査レポート2023-…
主要地域/国、製品タイプ、用途別に、2018年から2022年までの過去データ、および2029年までの予測データを調査・分析する。 様々なセグメントを識別することによって、強誘電体メモリ市場の構造を理解します。 強誘電体メモリの世界の主要なメーカーに焦点を当て、販売量、価値、市場シェア、市場競争状況、SWOT分析、今後数年間の開発計画を定義、記述、分析します。 個々の成長動向...
メーカー・取り扱い企業: QY Research株式会社 QY Research
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【分析事例】STEM・EDXデータと像シミュレーションによる評価
STEM像と原子組成の測定結果から結晶構造の評価ができます
試料の測定によって得られた結果と、シミュレーションの併用により、結晶構造の評価が可能です。 本資料では、多結晶体であるネオジム磁石において、HAADF-STEMとEDXの測定によって得られた結果と、各々の測定条件を用いたシミュレーション像の比較から結晶構造の考察を行っ...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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着目する表面構造によって2手法の使い分けが有効です
微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)及び走査イオン顕微鏡(Scanning Ion Microscope:SIM)は、どちらも二次電子像を得ることで試料表面近傍の構造評価を行う手法です。一次プローブの違いによってコントラストの現れ方や空間分解能などの違いがあり、着目する表面構造によって2手法の使い分けが有効です。本資料では2手法の比較をまとめるとともに、測定例と...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能
半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが知られています。 高分解能なXPSスペクトルではc(単結晶)-Siとa(アモルファス)-Siが異なったピーク形状で検出されることを利用して、この損傷由...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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