2層構造ホッパー『バイコーンオーガ』

PR回転スピードを三段階に変更可能！2層構造ホッパーは原料を留まらせない

『バイコーンオーガ』は、充填機のホッパーを2層式にすることで 粉体を残すことなく、下に落とす製品です。 原料の出口は、偏芯機構により、粉体をスクリューに滑り込ませて ブリッジがしにくい構造を実現。 撹拌棒は、粉体を充填口に向かって押し出す方向に設置されている為、 粉体をスムーズに下に落とすことが可能です。 【特長】 ■2層構造 ■ブリッジがしにくい構造 ■撹拌羽根とホ...

メーカー・取り扱い企業： 讃光工業株式会社

一般産業機械設備「シャフトレススクリューコンベヤ」

PRシャフトレスで脱水汚泥ケーキ、粘着性のある物質、絡みやすい紐状物質の輸…

「シャフトレス・スクリューコンベヤ」は、フレキシブルで強力な鋼製スパイラルで搬送します。 下水プラント、産業プラントに多数の納入実績を有しています。 【特長】 ・コンベヤ中心の回転軸がなく、脱水汚泥ケーキ、粘着性のある物質、絡みやすい紐状物質の輸送に適しています ・搬送効率を従来型スクリューに対し、50％以上の数値を採用可能 ・密閉構造で、輸送物や臭気の悲惨を防止できる ・「押し」...

メーカー・取り扱い企業： アサヒ機装株式会社

大気圧プラズマ装置を用いた粒子への効率的表面改質

大気圧プラズマ装置による効率的な表面処理を実現！バグフィルターにて捕獲…

大気圧プラズマ装置での粒子の分散性、粒子への親水化、 金属粒子への表面還元を高効率に処理ができる方法を開発しました。 ダウンストリーム型で幅広、長尺ワークへの有利な処理方法を生かした構造を 利用し、ラジカルをキャビティ内部に閉じ込め、ワークと撹拌することで、 より効率的な表面処理を可能にしました。 ワークに対して電気的・電磁波ダメージや、UVダメージを完全に排除しているため、 金...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマにおけるダメージを与えない表面機能性付与の新提案

大気圧、ダウンストリーム型プラズマを用いることにより表面ダメージ等を排…

】 ■はじめに～背景 ■プラズマ処理形態 ■大気圧プラズマ装置から発生する種々のダメージ ■現在の開発テーマ ■最後に 本資料では、大気圧プラズマ使用時の各種ダメージとその原因、電極構造の関係とダメージレス表面機能化やナノレベルの詳細について詳細されております。　 ※詳細はPDFをダウンロードいただくか直接お問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

Ｃｕエッチング対応高密度プラズマエッチング装置

新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜…

新開発プラズマ源HCｄ（ホローカソード放電）型電極搭載。無磁場・無アンテナのシンプルなk構造で従来型電極より一桁高いプラズマを密度を実現。 独自開発高密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくＣｕ薄膜などの難エッチング材のエッチングに対応。 新開発HCD型ヘッドはスケールアッ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

HCD型高密度プラズマエッチング装置

シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから１ｍ□基板まで対応。Ｓ…

従来型の容量結合型プラズマエッチング装置にくらべ一桁高い密度のプラズマを実現。高周波アンテナや磁石を使用せず、電極構造のみの工夫によって高精度エッチングが可能。従来型のエッチング装置（CCP型・ICP型）とのハード上の互換性も高く低コスト・高い信頼、稼働率の実現に寄与。 ウェハレベルの基板だけでなく大型基板のエッ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

コールドカソード減速イオン銃『OMI0750シリーズ』

高精度減速型多段レンズにより、高電流密度の低速イオンビームを照射可能

Vから3000eVの 減速型コールドカソードイオン銃です。 効率よくイオンを引き出し、高精度減速型多段レンズにより、高電流密度の 低速イオンビームを照射可能です。 フィラメントがない構造は反応性ガスを使用可能となっており、長寿命の 為メンテナンスサイクルを短くすることが可能。整備性に優れた新設計 ディスチャージチャンバーを採用しております。 また高効率差動排気設計によりメ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オメガトロン

大気圧リモートプラズマ装置『RT』

低温処理＆電界遮蔽構造でダメージレス！LCD工場を始め数多くの生産工程…

『RT』は、低温処理＆電界遮蔽構造の大気圧リモートプラズマ装置です。 高速（10m/min)処理で10°以下を達成（LCD向けガラス基板の処理）。 160～3400mm巾まで対応の豊富なラインアップをご用意しています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 積水化学工業株式会社 P2事業推進部

乾式除害装置(MAKシリーズ)

大気放出できない装置から排出される有害排気ガスを安全に除害処理します。…

を考慮した材質を使用。 ・固定生成物が排気ガス中に混在している場合も、バグフィルターで除去が可能です。 ・排気ガス処理ラインにはフルボアタイプのバルブを使用し、装置内での 　閉塞が起こりにくい構造となっています。 ・処理剤破過検知のほかに、装置内圧力・処理剤温度等を 　常時モニタリングし、異常発生時に警報を発報します。（一部オプション）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社巴商会 管理部署：企画営業部

大気圧プラズマ処理機『ALDYNE』※フィルム加工・印刷業界向け

高いエネルギーレベルが安定的に長期間持続！高機能性基材の開発が可能に！

これらの官能基が高極性であり、また塗工剤と共有結合し易い特性を利用し、 基材と塗工剤との接着性を高めます。 【特長】 ■高度な接着性と持続性 ■独立した冷却システム ■コンパクトな構造設計 ■基材に対応した最適な電極タイプが選択可能 ・非導電基材の高速処理に適した金属電極 ・導電性及び熱影響の大きい基材に適した、温度管理可能なセラミック電極 ※詳しくはPDF資料をご覧...

メーカー・取り扱い企業： ソフタル・コロナ・アンド・プラズマGmbH　日本支社

【資料】大気圧プラズマ発生装置

「大気圧プラズマの発生メカニズム」や「大気圧プラズマ装置の特長」などを…

【その他の掲載内容（一部）】 ■大気圧プラズマによる表面改質及び洗浄 ■プラズマ電極構造 ■セラミック電極構造 ■プラズマ放電構造による違い ■プラズマ照射により静電気の除去効果 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社都ローラー工業

高電流密度イオンビーム型イオン銃

EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃

アパーツ、サービスサポート等を提供する製造メーカーとして信頼性の高い非常に優れた機器を低価格でご提供しております。 【特⾧】 　■ 高電流密度イオンビーム：サンプル表面のスパッタ洗浄及び薄膜構造の迅速で正確な深さプロファイリングに最適です。 　■ スイッチャブルデュアルフィラメント：真空サイクル中でフィラメントがバーンアウトした場合、作業の進行を妨げることなく継続的な操作を可能にする切換...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テク

卓上型／スタンドアローン 大気圧プラズマ装置

シンプルな卓上型の大気圧プラズマ装置やダイレクト方式の装置など豊富に掲…

マ装置 　・キャリアガスに不活性のアルゴンを使用 　・省電力・低ガス消費量により優れたコストパフォーマンス ■大気圧プラズマ装置ヘッドユニット「MDシリーズ」 　・非常に軽量でシンプルな構造 　・生産設備に容易に取り付けることが出来る ■長距離照射N2プラズマユニット 　・曲面・凹凸のあるワークへの照射が可能 　・低温のためワークへの熱ダメージがない ※詳しくはPDF...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イトー

ICPメタルエッチング装置

Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応！デモ機常設！…

属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。 半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対応いたします。 独自のチャンバ内構造により抵パーティクルのメタルエッチング (nmレベル)を実現しており、高い歩留りと稼働率が特長です。 【特長】 ■nmレベルのメタル膜の精密エッチング ■独自機構による抵パーティクルプロ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

PIG式 DLCコーティング装置

優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現！スパッタカソードを標準装備していま…

、独自開発によるPIGプラズマガンを 採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDLC膜を高速で形成できる 高密度プラズマCVD装置です。 スパッタカソードを標準装備しており、スパッタ膜との積層構造により 優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現しています。 自動車部品の表面処理用途に豊富な実績を持っており、多くの用途に採用。 また新開発のアーク放電式マグネトロンカソードを装備することで ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

卓上大気圧バリア放電装置

低価格な小型装置！

●低価格 ●小型 　- 研究室にも置きやすい省スペース 　- 他の機器との組み合わせが容易 　- 処理部と操作部の一体化で取り回しが良い ●シンプルな構造 　- メンテナンス、点検が容易 　- 電極（消耗品）を簡便に交換 ●均一性 　- ハンディタイプのコロナ処理よりも均一 ●処理効率 　- 真空プラズマ処理と比べ真空排気が不要 ●ラン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社チェッカーズ

実験用スパッタ装置

簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/…

3系統まで対応可)、 　　マスフローコントローラーによる調整 ●　酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ●　オプションにて基板ヒーターの取付可。 ●　余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。 ●　800W×600L×900Hの省スペース ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ