• 減圧式濃縮乾燥装置『V-CyCle』<導入事例付き資料進呈> 製品画像

    減圧式濃縮乾燥装置『V-CyCle』<導入事例付き資料進呈>

    PR廃液を高濃度に濃縮。独自の撹拌機構でスケールに強く、固形分が析出しても…

    『V-CyCle』は、様々な廃液を高濃度に濃縮でき 産廃処分量の削減、廃液からの有価物の回収に貢献する装置です。 独自の撹拌・排出機構により、スケールや汚れに強く、 固形分が析出しても問題なく処理が可能。 また、シンプルな構造でメンテナンスが容易なほか、 高濃度・高粘度まで濃縮でき、金属加工業、化学工業、 食品工業、廃棄物処理業など様々な現場で活用できます。 【特長】 ...

    メーカー・取り扱い企業: 鹿島環境エンジニアリング株式会社 本社

  • ガススプリング 業界最大級165種類の品揃え! 製品画像

    ガススプリング 業界最大級165種類の品揃え!

    PRフリーピストンタイプとオールガスタイプを標準品としてラインナップ!最大…

    「HANIL-TSB ガススプリング」は、圧縮窒素ガスを使用しているので小型・軽量でバネ定数が小さいです。広範囲のストロークにわたってほぼ一定のバネ力が得られ、ピストンロッド作動速度のコントロールが可能です。 当カタログではガススプリングの構造をはじめ、反力特性や選定、使用上の注意、ラインアップをご紹介しています。 【ラインナップ】 ■ 標準在庫品 ー フリーピストンタイプ ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社タツタ

  • グローブボックス付 多源RFスパッタ装置 製品画像

    グローブボックス付 多源RFスパッタ装置

    酸素や水分を排除したい研究製膜環境!多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応…

    【仕様(一部)】 ■スパッタカソード  ・超高真空対応  ・低ダメージ成膜  ・最大4源搭載可能 ■基板ホルダー  ・基板加熱機構(常用800℃、酸化雰囲気対応)  ・基板回転機構(モーター回転)  ・基板昇降機構(ストローク50mm)  ・基板バイアス印加機構 ※オプション ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、...

    メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社

  • 4インチ3源RFスパッタ装置 製品画像

    4インチ3源RFスパッタ装置

    基板寸法は最大3インチで3枚収納可能!加熱機構・逆スパッタ機構を備えて…

    当製品は、金属・絶縁材料を対象とした3源RFマグネトロンスパッタ装置です。 基板は、加熱機構・逆スパッタ機構を備えています。 スパッタカソードはφ4インチマグネトロンカソード(3基)で、 基板挿入は上蓋手動開閉仕様となっております。 【特長】 ■基板寸法:最大3インチ(3枚...

    メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社

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