5軸用セルフセンタリングバイス／ゼロポイントシステム

PR高精度かつ、低コストを実現！初の日本販売！片側に1.5°スイングする口…

当製品は、片側に1.5°スイングする口金を採用し、グリップ力が 非常に向上したセルフセンタリングバイスです。 LANG社、HWR社、5th Axis社の52＆96システムと互換性がある 「ゼロ・ポイント・システム」を採用しております。 直接テーブルに設置できる溝とクランプエッジ付き。 【セルフセンタリングバイス　特長】 ■口金は、簡単に180度反転して入れ替えることができ、クランプ範囲を 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ファーステック

ダイボンダー/フリップチップボンダー FALCONシリーズ

PRマルチな高精度部品搭載に対応！高度な荷重制御が要求されるアプリケーショ…

『FALCONシリーズ』は、マニュアルからオート仕様までユーザーのニーズの沿った 装置をラインナップしたダイ・フリップチップダイボンダーです。 オプションを組み合わせによる御社要求仕様でのダイ・フリップチップボンダーの製作を実現。 加熱機構、高荷重接合、ウェハからのピックアップ、チップ反転機能等、お客様の仕様に適した装置を提案可能。 また、搬送機などを取り付けたフルオート仕様に対応可能な上位モデ...

メーカー・取り扱い企業： テクノアルファ株式会社

3連式電子ビーム蒸着装置

メンテナンス性・作業性が簡便！リフトオフ成膜機構には特殊遮熱機構を採用…

当製品は、金属材料を対象とし、リフトオフ成膜可能な電子ビーム蒸着装置です。 3連式EBガンはスライド移動機構により、メンテナンス性・作業性が簡便。 基板寸法は最大φ3インチで、リフトオフ成膜機構には特殊遮熱機構を 採用しております。 【特長】 ■基板寸法：最大φ3インチ ■基板加熱温度：...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

グラフェン結晶薄膜・表面分析装置

MBE成膜機構や表面熱分析機構、RHRRD結晶構造解析システムなどで構…

当製品は、「MBE法」と「表面熱分解法」を併用したグラフェン結晶薄膜 成長機構とRHEED/LEED表面分析機構を連結したinsituシステムです。 6H-SiC微傾斜([1-100]4°off]基板の(0001)面(Si面)を用いて、 グラフェンの成長を行った際、回...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

液体ソースプラズマCVD装置

小型でスペース効率の優れた装置！基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…

当製品は、TEOSをはじめ、液体原料ソースを対象とした シリンダーキャビネット付きプラズマCVD装置です。 液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、 内部異常放電防止対策や安定プラズマ生成目的の独自のプラズマ電極を 設計開発。 上蓋開閉により基板交換、内部メンテナンスでき、小型でスペース効率の 優れた装置です。 ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

グローブボックス付　多源RFスパッタ装置

酸素や水分を排除したい研究製膜環境！多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応…

【仕様（一部）】 ■スパッタカソード 　・超高真空対応 　・低ダメージ成膜 　・最大4源搭載可能 ■基板ホルダー 　・基板加熱機構（常用800℃、酸化雰囲気対応） 　・基板回転機構（モーター回転） 　・基板昇降機構（ストローク50mm） 　・基板バイアス印加機構　※オプション ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

薄膜作成コンポーネント

薄膜作成コンポーネント

小型電子銃（最小） ・水冷式接続ポート等、設計製作します ・水冷式UHV対応構造 ・豊富なハース材料 ■ルツボ最小2cc〜100cc対応Kセル ・ICF70よりマウント対応 ・シャッター機構オプション ・制御電源付き ■有機・金属材料対応のマルチ抵抗加熱ソース ・任意のフランジに搭載設計します ・水冷式 フレクタオプション ・シャッター機構付き ■詳細は、お問い合わせ下...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

管状電気炉

発電効率を測定する「燃料電池加熱試験装置」や「固体内イオン移動装置」な…

・真空中または不活性、水素雰囲気中で基板をMax700℃加熱DC印加することで生じる 　イオン移動現象により燃料電池の発電効率を測定 ・炉体、排気系付き石英炉心管・ガス系・基板昇降、DC電圧印加機構により構成 ■縦型電気雰囲気炉 ・燃料電池材料などを常用900℃加熱し、撹拌、昇華させる事により 　基板に結晶成長化合物膜を成長させることが可能 ・昇降機構付き炉体、排気系付石英炉心管、ガス...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

フィルム連続成膜装置

フィルム連続成膜装置

徴■□■ ■スパッタ・EB・抵抗加熱蒸着に対応 ■テンションピックアップフィードバック制御 ■フィルム放出ガス排気用コールドトラップ ■差動排気システム（任意設置） ■基板クリーニング機構 ■抵抗値透過率モニター機構 ■成膜ローラー冷温媒装置 ■表裏連続成膜にも対応します（右記イメージ図参照） ■ロール幅・ロール径・巻取り速度は任意相談 ■巻取り制御 UW、W、CR単独制御...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

sic表面熱分解法　グラフェン結晶成長装置

熱分解グラフェン成長に適したsic基板加熱機構を装備

【特徴】 ○sic表面熟分解法によるエピタキシャルグラフェン形成装置 ○熱分解グラフェン成長に適したsic基板加熱機構を装備 →成長後の既存UHVチャンバーへの接続・増設が容易 ○超高真空対応 →超高真空表面分析装置・評価装置との接続が可能で、高品位成膜に寄与 ○ガス導入系マウント構造 →基板表面にガス導...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

ウェハー表面改質・精密接合装置

ウェハー表面改質・精密接合装置

に適した表面改質処理による前処理機能 ■均一な加熱、加圧機能を備えた接合システム ■残留応力低減のための加熱冷却システム ■超高真空〜加圧雰囲気に任意対応 ■任意ポジション加圧・電圧印加制御機構 ■半導体製造装置や理化学機器及び付属品のオーダーメイド品なら 　 お任せください。詳細は、お問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

ウェハー表面改質・精密接合装置

超高真空～加圧雰囲気に任意対応！均一な加熱、加圧機能を備えた接合システ…

に適した表面改質処理による前処理機能 ■均一な加熱、加圧機能を備えた接合システム ■残留応力低減のための加熱冷却システム ■超高真空～加圧雰囲気に任意対応 ■任意ポジション加圧・電圧印加制御機構 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

超高真空・酸化雰囲気対応基板加熱ヒーター

ヒーターの大型化・任意形状対応、表面処理機構増設、真空装置接続等の対応…

当製品は、制御応答性が高く、ガス放出のきわめて少ない構造の クリーンヒーターです。 試料直接照射加熱、及びホットプレート間接加熱ともに対応可能。 熱容量が小さく、超高真空中・大気圧中・酸素雰囲気中での使用ができます。 【特長】 ■均一照射が可能なハロゲンランプ ■経済的でエネルギー効率・応答性の高いヒーター ■石英ボディーランプ、高温対応の金属リフレクタ・ベースで構成 ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

4インチ3源RFスパッタ装置

基板寸法は最大3インチで3枚収納可能！加熱機構・逆スパッタ機構を備えて…

当製品は、金属・絶縁材料を対象とした3源RFマグネトロンスパッタ装置です。 基板は、加熱機構・逆スパッタ機構を備えています。 スパッタカソードはφ4インチマグネトロンカソード（3基）で、 基板挿入は上蓋手動開閉仕様となっております。 【特長】 ■基板寸法：最大3インチ（3枚...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

3源抵抗加熱蒸着装置

EB源増設ポート付！4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備…

当製品は、金属材料を対象とした3源切り替え式抵抗加熱蒸着装置です。 角型チャンバーにより、メンテナンス性が向上。 4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています。 【特長】 ■基板寸法：100×100 ■基板加熱温度：常用600℃ ■基板回転ホルダー ■水晶式膜厚計 ■EB源増設ポート付 ■抵抗加熱源：100A...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社