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【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)
PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-
書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか! 新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会
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SETO ENGINEERINGでは、ロールtoロールの技術を生かし、…
ーン鍍金も可能です。また、CCL材用鍍金も可能となっております。 ●電解銅めっき装置(不溶解銅めっき) 製品パターン部分に銅めっき処理を行うことができます。フィルム箔を前処理・銅めっき処理・水洗洗浄・乾燥工程を経て製品の表裏をロールtoロールの縦搬送方式にて実施。参考装置寸法は、操作盤・付帯設備は除き、 20m(L)×4.6m(W)×4.4m(H)となっています。 その他の種類のめっき...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所
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縦搬送方式にて製品パターン部分に銅めっき処理を行う装置をご紹介いたしま…
当装置は、製品パターン部分に銅めっき処理を行うことができます。 フィルム箔を前処理・銅めっき処理・水洗洗浄・乾燥工程を経て 製品の表裏をロールtoロールの縦搬送方式にて実施。 参考装置寸法は、操作盤・付帯設備は除き、 20m(L)×4.6m(W)×4.4m(H)となっています。 【スペッ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所
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両面加工が可能!材料幅は280mmまで、材料厚みは25μm~50μmに…
当装置は、フィルム箔を前処理・銅めっき処理・水洗洗浄・ 乾燥工程を経て製品の表裏をロールtoロールの縦搬送方式にて 製品パターン部分に銅めっき処理テストを行う装置です。 搬送速度は0.1~0.5m/min、材料幅はMAX280mm、 材料...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所
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希望のサイズに合わせた装置の提供が可能!電解めっきは縦搬送を採用してい…
【仕様】 ■寸法:2100mm(L)×2650mm(W)×1950mm(H) ■基材幅:MAX 200mm ■処理工程:巻出→前処理→めっき→洗浄→乾燥→巻取 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所
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キズ・シワなく搬送!処理部にUP・DOWN処理方式を採用し、装置全長を…
【その他のスペック】 ■装置構成:巻出~ 前処理~ 銅めっき~ 洗浄~ 乾燥~ 巻取 ■ユーティリティー:電源(AC200・220V/50・60Hz) 純水、市水、冷却水、スクラバー、熱排気、(スチーム) ■参考装置寸法:15m(L)×2m...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所
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搬送速度は5.0m/min、材料幅は310mmまで対応!金属箔(ALな…
当装置は、金属箔(ALなど)の表面をエッチングする装置です。 搬送速度は5.0m/min、材料幅は310mmまで対応。 装置は、巻出~エッチング処理~洗浄~乾燥~巻取の構成と なっております。 薄物で非常に脆弱な機材を当社の低テンション搬送技術により、 キズ・シワなく搬送し連続処理を行います。 【仕様】 ■Lane構成:1Lane ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所
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