ＮＥＷ温度可変レーザ三次元測定機

リフロー時における熱変形を高精度測定　半導体パッケージ・プリント基板・…

用により最大で10℃/secでの加熱が可能となり、リフロー時の温度プロファイルを忠実に再現できます。 幅広い温度範囲　正確な温度制御 　試料の加熱・冷却・温度保持をおこなう恒温チャンバは、液体窒素流量制御とヒータ出力制御によりマイナス７０℃から３５０℃までの温度範囲で正確な温度制御をおこないます。 充実した測定機能　各種解析サポート機能　多彩な解析と機能 　◇Surface測定・C...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立テクノロジーアンドサービス

分子線エピタキシー（MBE）装置

コンパクトなサイズ（１インチ〜２インチ）対応のMBE装置です。

蒸着源には、弊社製金属蒸着セル（KMD-Cell）を搭載しております。また、他社製蒸着セルの搭載も可能であり、ご指示頂きました蒸着セルをご選択可能な設計をしております。超高真空対応に、標準にて液体窒素用シュラウドを装着しております。基板加熱・回転機構を装備しております。窒化物半導体や酸化物半導体は、RFアトムソースを接続する事により、成長可能です。また、蒸着チャンバーを複数ドッキング可能な設計...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社