解説資料『水冷板－工法／材質の検討』

PRすぐ読めて、よく分かる。放熱用の水冷板について、理解が深まる解説資料

当社はヒートシンクをはじめ、熱問題を解決する製品をご提供しています。 ただいま、当社の製品のひとつ「水冷板（水冷製品）」について 分かりやすく解説した資料を進呈中です。 “水冷の導入には何を準備したら良いか” “水冷板の構造・種類とは”　“材質はどれが良いのか” といったことが理解できる資料です。 既に水冷製品を導入しているが、 コストや性能などの最適化にご興味がある方に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ザワード

貼るだけで熱対策！薄くて軽い輻射放熱シート PAL-350A

PR貼るだけで熱対策！小型化・軽量化が求められる発熱部品や筐体の熱対策に貢…

熱伝導率の高いアルミフィルムに輻射率の高い放熱塗料をコーティングし、粘着加工した製品です。 熱を赤外線等に変換し、放熱します。 ヒートシンクと比べて非常に薄いため、スペースに限りがある場所の熱対策に適しています。 【特長】 ■発熱体へ直接貼りつけることで輻射（ふくしゃ）放熱による熱拡散効果を付与 ■総厚が約110μｍ程と非常に薄い ■ふっ素樹脂を加えることで耐候性に優れる ■使用...

メーカー・取り扱い企業： 中興化成工業株式会社 本社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

高圧アニール装置

高圧アニール装置

LCD用低温ポリシリコンTFT基板や半導体ウェハの素子特性を向上させ、均一化するための装置です。 従来は1300℃で熱酸化させていた工程を、この装置では水蒸気で加圧加熱することにより600℃以下の低温で同じ効果を得ることができます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協真エンジニアリング 本社

カットサンプル提供中！工業炉の省エネ・熱対策ならお任せください

放熱がひどく環境が悪化していたアニール炉に「えこきーぱー」を施工した事…

環境対策を行った事例をご紹介いたします。 以前より採用していただいている自動車部品メーカー様。別のアニール炉で 施工している「えこきーぱー」の省エネ効果が出ているため、保温等は 一切せず放熱がひどく環境が悪化していた工場内のアニール炉の環境対策での 施工をご依頼いただきました。 関連リンクでは、施工前・施工後の写真を豊富に掲載しております。 ぜひ、ご覧下さい。 【事例概...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社アール・シーウメハラ 本社

2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援

光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…

ォーム径も大型化してゆく時代でした。私が担当した当時は、購入した線引炉の水漏れがたびたび起きて、自社で線引炉を開発することになりました。 炉の設計技術が社内に無かったので付き合いのある炉メーカに加熱炉の設計・製作を依頼しました。しかし、水漏れが数か月で水漏れが発生しました。加熱炉の電源をオフにしても炉内は煌々と光っており、現場にいた私は生きた心地がしませんでした。 そこで加熱炉の設計を自分で...

メーカー・取り扱い企業： プロセスD&Tラボ 千葉

排熱回収型,塗装用熱風乾燥機ドライテック

排熱回収型、低ランニングコスト、塗装用熱風乾燥機

世界唯一の熱風乾燥炉ドライテックは、塗装業界では知らない人はいないほど。仕上りの良さ、温度上昇の早さ、温度分布の良さ、そして低燃費。世界に通じるベストセラーです。 また、クリーンルーム内設置可能な品質コストを...

メーカー・取り扱い企業： タクボエンジニアリング株式会社 営業本部／東金テクニカルセンター

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社