• ガス加熱用高効率ヒータ『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』 製品画像

    ガス加熱用高効率ヒータ『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』

    PR小型・軽量で高効率!手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータをご紹介

    ワッティーが提供する『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』は、 280g軽量かつ、手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータです。 低流量1~5L/min 250℃対応。 K熱電対、サーモスタット、外装用断熱材を標準装備しております。 【特長】 ■280g軽量かつ、手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータ ■低流量1~5L/min 250℃対応 ■K熱電対、サーモスタ...

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    メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社

  • 電流導入端子 製品画像

    電流導入端子

    PR高真空、超高真空へ の電流導入端子です!

    米国MPFプロダクト社の電流導入端子のご紹介です。 ■MIL丸型、C-Sub型のマルチピン、熱電対、高電流・高電圧タイプ、同軸タイプ等各種電流導入端子を取り扱っております。 ■電流導入端子と併せて使用するコネクタ、ケーブル等もお取り扱いがございます。 ■標準品のカスタマイズ(フランジの変更、ピン長さの変更等)にも対応しております。まずはお問い合わせ下さいませ。 ※詳しくはカタログを...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社テクサム

  • アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』 製品画像

    アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆ 製品画像

    ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆

    ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…

    〜3枚程度 ・石英サセプタ手動昇降式:停止位置目盛、クランパ付き ・炉芯管:Φ100 x Φ95 x 470L mm ・昇降:手動回転ハンドル ・温度調節:PIDプログラム温度調節計 ・熱電対:2対式K熱電対x1(制御用、過昇温用)、Kタイプ素線(炉芯測温用)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置 製品画像

    【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

    ◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWN…

    ,真空プロセス制御 ・ロータリーポンプ標準付属(オプション:TMP, Diffusion or Dry Pump) ・ガス供給3系統(標準) ・試料加熱ステージMax1100℃ ・Kタイプ熱電対 ◆Model. nanoCVD-8N(CNT用)◆ ・CNT生成用,常圧プロセス制御 他同上 ※ H2, Ar, N2, Ethanol, CH4等の原料、及び原料供給設備は付属...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

    卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…

    :C/Cコンポジット(カーボン炉), タングステン(メタル炉) ・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン炉), タングステン/モリブデン(メタル炉) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 6KVA ・冷却水:3L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆コントロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ン(メタル炉) ・有効加熱範囲:Φ2inch〜Φ4inch ・7inchタッチパネル操作 ・デジタル真空計 ・フローメーター(ガス流量手動調整) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・一次側電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 50A NFB ・冷却水:8L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃  製品画像

    TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃

    コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉

    、ガス圧力低下 ◆基本仕様◆ ・電源仕様:AC200V 75A NFB 50/60HZ(C-500) ・Max2900℃(カーボン炉)、2400℃(メタル炉)、 ・プログラム温度調節計、C熱電対 ◆オプション◆ ・記録計 ・ターボ分子ポンプ ・るつぼ ◆主なアプリケーション◆ ・新素材開発 ・燃料電池 ・その他...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃ 製品画像

    【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

    超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

    ティング, グラファイト/PBNコーティング, PGコーティング, AlNヒーター ◉ 各種真空フランジ接続:ICF, ISO(KF/LF), JIS(VG/VF)フランジ ◉ K, C, R熱電対付属 ◉ その他オプション:温度制御ユニット, Inc, グラファイト or SiC基板ホルダー...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置 製品画像

    ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ン(メタル炉) ・有効加熱範囲:Φ2inch〜Φ4inch ・7inchタッチパネル操作 ・デジタル真空計 ・フローメーター(ガス流量手動調整) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・一次側電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 50A NFB ・冷却水:8L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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