災害の先の安心を提供する非常用貯水槽『Multi Aqua C』

PR1本150Lの貯水タンクシステム！断水を伴う発災後ただちにひっぱくする…

『Multi Aqua C』は、断水を伴う災害直後の高鮮度の水の確保という課題をただちに解決する非常用貯水槽です。 大規模災害の場合、発災後一定期間の帰宅抑制、事業場の災害拠点化を迫られます。その場合、ただちに直面するのが水の確保の問題です。一般的に電気、ガスに比べて復旧に時間のかかる断水復旧。『Multi Aqua C』は、企業のBCP対策、一時帰宅困難者対策としてもお使いいただけます。 設置...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノフレックス

溶剤回収装置(真空蒸留式)『HRSシリーズ』

PR溶剤の有効成分の回収！運転やバルブ操作は、空気圧や窒素圧による遠隔操作…

本装置は、廃溶剤液から水分や不純物を除去し、溶剤の有効成分の回収を行う装置です。 【特長】 ■溶剤のリサイクル、廃液処理のコスト削減 ■空気圧・窒素ガスによる遠隔操作方式の為、高い安全性確保 ■連続減圧蒸留方式で蒸留ユニットは防爆仕様 ■設置・移動が簡単な省スペース設計 ■簡単操作、自動運転 ■安全に留意した自動停止機構 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお...

メーカー・取り扱い企業： プリテクノジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

研究開発用エッチング装置　ＳＰＥ４０

研究開発用エッチング装置　ＳＰＥ４０

ング→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500ｍｍ 厚み0.4〜2.0ｍｍ【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1300×L1590×H1215ｍｍ ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDのエッチングが可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二宮システム

エッチング実験装置『ミニミニエッチャー』

少量の薬液でのエッチングが可能！容易な薬液の交換で実験・開発に好適です

レー」をはじめ、 「横型・上下スプレー」や「水平揺動型・上下スプレー」などをラインアップ。 少量の薬液でのエッチングが可能で、数枚単位の基板製作に対応出来、 また、薬液の交換も容易で、省スペースにて設計されています。 【特長】 ■小型基板の製作および薬液の実験・開発に好適 ■少量の薬液でのエッチングが可能 ■数枚単位の基板製作に対応 ■薬液の交換も容易 ■省スペース設計...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シマテック

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm ・トリプル...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ドライエッチング装置・リアクティブイオンエッチング装置・コンパクトエッチャー・アッシング装置・クリーナー(クリーニング装置)

ドライエッチング装置・リアクティブイオンエッチング装置・コンパクトエッ…

の剥離や各種シリコン薄膜のエッチング、フォトレジストのアッシングなどを効率よく、かつ低損傷で行うドライエッチング装置です。操作方法は簡単で、試料をセットしてボタンを押すだけで使用できます。また、省スペースで場所を選ばず、床置型、卓上型のどちらにも対応が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

低振動・低騒音ペルチェチラーThermoRack800

レーザーの温度制御に最適！

応できます。コアとなる電子温調モジュールは200,000時間を越える寿命をもちます。 【特長】 ■素早い温度応答性と高い温度安定性 ■6Uスタンダード　19インチラックに収まるサイズで省スペース ■温度安定性：±0.05℃（無負荷または負荷一定時） ■フロン系冷媒不使用 ■消費電力を大幅削減 ■騒音・振動を低減 ...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

スプレー/パドル兼用 小型スピン現像装置（デベロッパー)

高品質・低価格・省スペースを追求 スイングスプレー式、パドル方式の両…

マルチステッププログラムは99ステップ×50パターン保存可能。 薬液系統増設や薬液温調システム等のオプションもご用意しています。 他サイズ、特注仕様もご相談下さい。...6インチウエハ対応の小型スピン現像装置。スイング式ノズルによるスプレー現像の他、パドル現像も行なえます。 プログラム入力により現像→リンス→振り切りの一連動作を連続して行なうセミオート方式デベロッパーです。...

メーカー・取り扱い企業： アクテス京三株式会社 技術センター

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

研究開発用小型エッチング装置　ＨＰＥ４０

狭いスペースＯＫ、使い用途に合わせた設定変更可能、短納期を実現した『小…

洗１→水洗２→絞り→取出し 【基板サイズ】Max.W400×L500ｍｍ　厚み0.4〜2.0ｍｍ 【ノズル揺動】水平揺動 【装置サイズ】W1420×L1950×H1645ｍｍ ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDのエッチングが可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二宮システム

低振動・低騒音ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

00時間を越える寿命をもち、世界中の電源に対応のユニバーサル電源を搭載しています。 【特長】 ■素早い温度応答性と優れた温度安定性 ■4Uスタンダード　19インチラックに収まるサイズで省スペース ■温度安定性：±0.05℃（無負荷または負荷一定時） ■フロン系冷媒不使用 ■消費電力を大幅削減 ■騒音・振動を低減 ...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

レーザー装置に最適！ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！ 消…

できます。コアとなる電子温調モジュールは200,000時間を越える寿命をもちます。 【特長】 ■素早い温度応答性と優れた温度安定性 ■4Uスタンダード　19インチラックに収まるサイズで省スペース ■温度安定性：±0.05℃（無負荷または負荷一定時） ■フロン系冷媒不使用 ■消費電力を大幅削減 ■騒音・振動を低減 ...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

できます。コアとなる電子温調モジュールは200,000時間を越える寿命をもちます。 【特長】 ■素早い温度応答性と優れた温度安定性 ■4Uスタンダード　19インチラックに収まるサイズで省スペース ■温度安定性：±0.05℃（無負荷または負荷一定時） ■フロン系冷媒不使用 ■消費電力を大幅削減 ■騒音・振動を低減 ...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社